染色されたフォトレジストとその方法及びそれからなる工業製品

発明者： , , , , , , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：佐伯憲生
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-307762
公開番号（公開出願番号）：特開平10-186647
出願日： 1997年10月06日
公開日（公表日）： 1998年07月14日
要約：

【要約】【課題】本発明は新規なフォトレジスト及びそれに用いる染料化合物を提供する。【解決手段】本発明は、樹脂バインダー、光活性成分、特に酸発生剤、及び、1つ又はそれ以上の発色団を含有する染料物質からなる新規なフォトレジスト組成物に関する。本発明のフォトレジスト組成物は、照射線の望ましくない反射を減少させることができる。本発明の好ましい染料化合物は、遠紫外領域に吸収帯を有するアントラセンや他の多環式部分などからなる発色団を1つ又はそれ以上有する高分子物質である。

請求項（抜粋）：

樹脂バインダー、光活性成分及びアントラセン基を含有する染料化合物からなるフォトレジスト組成物。

IPC (8件)：

G03F 7/004 506 , C08L 33/06 , C09B 69/10 , G03F 7/038 601 , G03F 7/039 601 , G03F 7/30 , H01L 21/027 , C08F 20/10

FI (8件)：

G03F 7/004 506 , C08L 33/06 , C09B 69/10 B , G03F 7/038 601 , G03F 7/039 601 , G03F 7/30 , C08F 20/10 , H01L 21/30 502 R

引用特許：

審査官引用 (11件)

染色されたフォトレジストとその方法及びそれからなる工業製品
公報種別：公開公報出願番号：特願2006-290286 出願人：ローム・アンド・ハース・エレクトロニック・マテリアルズ,エル.エル.シー.
パターン形成方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平6-001807 出願人：株式会社東芝
遠紫外線用レジスト組成物及びこれを用いた微細パターン形成方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平7-083199 出願人：和光純薬工業株式会社, 松下電器産業株式会社

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