特許

J-GLOBAL ID：200903082064796331

部分酸化法による合成ガスの製造方法

発明者： 八木 冬樹 ,  南雲 篤郎 ,  和田 幸隆 ,  志村 光則 ,  浅岡 佐知夫 ,  若松 周平
出願人/特許権者： 千代田化工建設株式会社
代理人 (1件)： 池浦 敏明 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-117822
公開番号（公開出願番号）：特開平11-130404
出願日： 1998年04月13日
公開日（公表日）： 1999年05月18日
要約：

【要約】【課題】 含炭素有機化合物を酸素と反応させて合成ガスを製造する方法において、炭素析出の問題の解決された合成ガスの製造方法を提供する。【解決手段】 含炭素有機化合物と酸素とを触媒の存在下で反応させて合成ガスを製造する方法において、該触媒として、金属酸化物からなる担体に第8族金属の中から選ばれる少なくとも1種の触媒金属を担持させた触媒であって、(i)該担体金属酸化物中の金属イオンの電気陰性度が13.0以下であり、(ii)該触媒の比表面積が25m2/g以下であり、(iii)該触媒金属の担持量が該担体金属酸化物に対して0.0005〜0.1モル%である触媒を用いることを特徴とする合成ガスの製造方法。

請求項（抜粋）：

含炭素有機化合物と酸素とを触媒の存在下で反応させて合成ガスを製造する方法において、該触媒として、金属酸化物からなる担体に第8族金属の中から選ばれる少なくとも1種の触媒金属を担持させた触媒であって、(i)該担体金属酸化物中の金属イオンの電気陰性度が13.0以下であり、(ii)該触媒の比表面積が25m2/g以下であり、(iii)該触媒金属の担持量が該担体金属酸化物に対して0.0005〜0.1モル%である触媒を用いることを特徴とする合成ガスの製造方法。

IPC (5件)：

C01B 3/36 ,  B01J 23/46 ,  B01J 23/46 301 ,  B01J 23/46 311 ,  C01B 3/40

FI (5件)：

C01B 3/36 ,  B01J 23/46 M ,  B01J 23/46 301 M ,  B01J 23/46 311 M ,  C01B 3/40

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 特開平4-331704
  
• 特開平2-307802
  
• 低級炭化水素燃料の改質方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-327865   出願人：株式会社東芝
• 炭化水素の接触部分酸化法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-174670   出願人：シエル・インターナシヨネイル・リサーチ・マーチヤツピイ・ベー・ウイ