特許
J-GLOBAL ID:200903082086952868
半導体レーザ
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
畑 泰之
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平10-173368
公開番号(公開出願番号):特開2000-012971
出願日: 1998年06月19日
公開日(公表日): 2000年01月14日
要約:
【要約】【課題】 GaAs基板上に形成可能な1.3ミクロン帯の発光域を有する半導体レーザを開発する。【解決手段】 活性領域401にGaAsSbから成る量子井戸層405を設ける。当該活性領域は、GaAs基板上に設ける事が出来る。
請求項(抜粋):
活性領域にGaAsSbから成る量子井戸層が設けられている事を特徴とする半導体レーザ。
IPC (2件):
FI (2件):
Fターム (15件):
5F041AA11
, 5F041CA04
, 5F041CA05
, 5F041CA14
, 5F041CA34
, 5F041CA36
, 5F041CA38
, 5F041FF14
, 5F073AA13
, 5F073AA46
, 5F073AA51
, 5F073AA74
, 5F073BA02
, 5F073CA07
, 5F073DA06
引用特許:
審査官引用 (8件)
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特開昭58-225677
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特開平2-106082
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特開昭60-235492
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特開平3-003384
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特開平2-130988
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半導体レーザ素子
公報種別:公開公報
出願番号:特願平4-061772
出願人:株式会社日立製作所
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半導体レーザ装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平6-189241
出願人:株式会社日立製作所
-
半導体レーザ
公報種別:公開公報
出願番号:特願平4-275647
出願人:富士通株式会社
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