欠陥検査方法及びその装置並びに欠陥解析方法及びその装置

発明者： , , , , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：小川勝男 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-250984
公開番号（公開出願番号）：特開2001-077165
出願日： 1999年09月06日
公開日（公表日）： 2001年03月23日
要約：

【要約】【課題】検査部位を撮像した検査画像と、検査部位と同一の回路パターンが形成されていることが期待される他の部位を撮像した参照画像との間で局所的な階調値むら等がある場合でも、それらの影響を受けずに欠陥検出を行うことのできる欠陥検査方法及びその装置並びに欠陥解析方法及びその装置を提供することにある。【解決手段】検査画像内を複数の領域に分割し、各領域毎に検査画像の画素値と参照画像の画素値(階調値)との第1の相関関係を求める。次に、検査画像の各画素毎にその画素の階調値と、その画素と対応する参照画像内の画素の画素値との第2の相関関係を求める。検査画像内の各画素について、第1の相関関係と第2の相関関係を基にその画素が欠陥を構成しているか否かを判定する。

請求項（抜粋）：

被検査対象基板における検査部位の外観を2次元検査画像として検出する検査画像検出過程と、前記検査部位と同一の回路パターンを有することが期待される参照部位の外観を2次元参照画像として準備する参照画像準備過程と、前記検査画像検出過程において検出された2次元検査画像または前記参照画像準備過程において準備された2次元参照画像を複数の領域に分割し、該分割された領域毎に、前記2次元検査画像と前記2次元参照画像との間の対応する各画素における階調値の相関関係を算出する相関関係算出過程と、該相関関係算出過程で算出された領域毎の階調値の相関関係と、前記2次元参照画像内の各画素に対応する前記2次元検査画像内の画素における階調値との対応関係を用いて、前記2次元検査画像と前記2次元参照画像とを比較判定して欠陥または欠陥候補を検査する比較判定過程とを有することを特徴とする欠陥検査方法。

IPC (2件)：

H01L 21/66 , G01N 21/956

FI (2件)：

H01L 21/66 J , G01N 21/956 A

Fターム (34件)：

2G051AA51 , 2G051AB02 , 2G051AB20 , 2G051BA05 , 2G051BA10 , 2G051BA20 , 2G051BB05 , 2G051CA03 , 2G051CA04 , 2G051CB01 , 2G051DA07 , 2G051EA04 , 2G051EA08 , 2G051EA12 , 2G051EA20 , 2G051EB01 , 2G051EB02 , 2G051EC03 , 2G051EC06 , 2G051ED07 , 2G051ED11 , 4M106AA01 , 4M106BA02 , 4M106BA05 , 4M106BA07 , 4M106CA38 , 4M106DB02 , 4M106DB04 , 4M106DB08 , 4M106DB20 , 4M106DB21 , 4M106DJ11 , 4M106DJ20 , 4M106DJ21

引用特許：

審査官引用 (2件)

半導体チップの外観検査方法および装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-333166 出願人：シャープ株式会社
欠陥検査方法およびその装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平10-037128 出願人：株式会社日立製作所

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