特許
J-GLOBAL ID：200903082139495669

被曝量管理/制御システムと方法

発明者：
ゲーリー・フランシス・レリハン

ゲーリー・フランシス・レリハン について

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クラレンス・エル・ゴードン,ザ・サード

クラレンス・エル・ゴードン,ザ・サード について

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ジョージ・チャールズ・グッドマン

ジョージ・チャールズ・グッドマン について

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バオミン・マー

バオミン・マー について


出願人/特許権者：
ゼネラル・エレクトリック・カンパニイ

ゼネラル・エレクトリック・カンパニイ について


代理人 (1件)： 松本 研一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-209174
公開番号（公開出願番号）：特開2001-068294
出願日： 2000年07月11日
公開日（公表日）： 2001年03月16日
要約：
【要約】【課題】 被曝量管理/制御システムとX線技術の選択方法を提供する。【解決手段】 画質に影響を与える最適なX線技術を前もって正確に決定することで、それをアプリケーションで使うことができる。画質に影響しないパラメータを使って、閉ループの輝度制御と患者のモデルを組み合わせる。これを使って、知識ベースの制御システムとして動作する制御システムを作る。X線システム輝度制御システムは第1と第2の調整部を備える。第1の調整部は、画質、即ち、輝度の調整部である。輝度調整部は、最大mA制御、パワー制限、表皮線量制限、優先機能等の複数の機能をもつ。第2の調整部は線量誤差調整部である。第2の調整部は第1の調整部とは独立しているが、第1の調整部と協力することで、輝度制御とは無関係にX線技術の最適化を行う。
請求項（抜粋）：
画質調整部と、前記画質調整部とは独立し、前記画質調整部と協力してX線技術の最適化を行う線量誤差調整部と、を備えることを特徴とするX線制御システム。
IPC (3件)：
H05G 1/46 ,  H05G 1/30 ,  H05G 1/36
FI (3件)：
H05G 1/46 ,  H05G 1/30 B ,  H05G 1/36 L
引用特許：
出願人引用 (4件)
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審査官引用 (9件)
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