特許

J-GLOBAL ID：200903082150976911

炭素膜

発明者： 織田 一彦 ,  大原 久典 ,  内海 慶春
出願人/特許権者： 住友電気工業株式会社
代理人 (2件)： 稲岡 耕作 ,  川崎 実夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-271447
公開番号（公開出願番号）：特開2008-106361
出願日： 2007年10月18日
公開日（公表日）： 2008年05月08日
要約：

【課題】ダイヤモンド膜あるいはダイヤモンド状炭素膜に代わって、工具、金型、機械部品などの耐磨耗性および耐久性を向上させるための炭素膜を提供する。 【解決手段】カソードアークイオンプレーティング法で、固体炭素である等方性グラファイトを原料とし、真空度0.05Pa以下の雰囲気下で、合成温度100〜300°Cで成膜され、密度が2.8〜3.3g/cm3、スピン密度が1×1018〜1×1021spins/cm3、ヌープ硬度が1500〜6000である炭素膜。炭素濃度が99.5原子%以上、水素濃度が0.5原子%以下、希ガス元素濃度が0.5原子%以下、ヌープ硬度が2000〜6000であることが好ましい。この炭素膜が被覆された炭素膜被覆部材は、耐磨耗性および耐久性に優れている。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

カソードアークイオンプレーティング法で、等方性グラファイトを原料とし、真空度0.05Pa以下の雰囲気下で、合成温度100〜300°Cで成膜された、密度が2.8g/cm3以上3.3g/cm3以下、スピン密度が1×1018spins/cm3以上1×1021spins/cm3以下、ヌープ硬度が1500以上6000以下である炭素膜。

IPC (3件)：

C23C 14/06 ,  B23B 27/14 ,  B23B 51/00

FI (3件)：

C23C14/06 F ,  B23B27/14 A ,  B23B51/00 J

Fターム (21件)：

3C037CC01 ,  3C037CC09 ,  3C046FF12 ,  3C046FF19 ,  3C046FF23 ,  3C046FF24 ,  4K029AA02 ,  4K029AA04 ,  4K029AA06 ,  4K029AA24 ,  4K029BA34 ,  4K029BB10 ,  4K029BD03 ,  4K029BD04 ,  4K029BD05 ,  4K029CA03 ,  4K029DB05 ,  4K029DD06 ,  4K029EA03 ,  4K029EA05 ,  4K029EA08

引用特許：

審査官引用 (5件)

• 硬質被膜及び被覆部材
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-367844   出願人：住友電気工業株式会社
• 特開平2-022458
  
• 硬質炭素膜及び硬質炭素膜被覆部材並びに硬質炭素膜生成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-009344   出願人：京セラ株式会社
• ダイヤモンドライクカーボン多層膜
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-126827   出願人：株式会社神戸製鋼所
• ヘッドスライダー
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-186765   出願人：日立金属株式会社

引用文献：

審査官引用 (4件)

• DIAMOND-LIKE CARBON-FILMS SYNTHESIZED BY CATHODIC ARC EVAPORATION
• Experimental Study of Hydrogen-free DLC film Deposition by XeCl(308nm) pulsed laser ablation
• Raman spectroscopy of carbon films grown by pulsed laser evaporation of graphite
• Raman spectroscopy of carbon films grown by pulsed laser evaporation of graphite