露光方法および露光装置

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：高梨幸雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-137476
公開番号（公開出願番号）：特開平11-317351
出願日： 1998年05月02日
公開日（公表日）： 1999年11月16日
要約：

【要約】【課題】プローブ露光と通常露光の2つを用いて高解像度のパターン像が得られる露光方法および露光装置を得ること。【解決手段】感光性の基板にプローブを用いて周期パターンを露光するプローブ露光と、前記周期パターンに比べて解像度の低いパターンを露光する通常露光を含む2重露光を含むこと。

請求項（抜粋）：

感光性の基板にプローブを用いて周期パターンを露光するプローブ露光と、前記周期パターンに比べて解像度の低いパターンを露光する通常露光を含む2重露光を含むことを特徴とする露光方法。

IPC (4件)：

H01L 21/027 , G03F 7/20 502 , G03F 7/20 521 , G03F 9/00

FI (6件)：

H01L 21/30 502 C , G03F 7/20 502 , G03F 7/20 521 , G03F 9/00 H , H01L 21/30 502 A , H01L 21/30 502 G

引用特許：

出願人引用 (3件)

審査官引用 (1件)

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