特許
J-GLOBAL ID：200903082174456862
真空または低圧環境下で気体の操作及び観察を可能にする装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
服部 雅紀
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-186174
公開番号（公開出願番号）：特開2006-313716
出願日： 2005年06月27日
公開日（公表日）： 2006年11月16日
要約：
【課題】 操作と組み立てが簡単である真空または低圧環境下で気体の操作及び観察を可能にする装置を提供する。【解決手段】 一側に扁平部12を有するケ-ス11を含み、ケ-ス11は内部に少なくとも一枚の隔離板14を有することで、内部を分割して気体室16を形成する。気体室16は外部に少なくとも一つの緩衝室18を有し、気体室16の頂面と底面の隔離板14は別々に内孔142を有する。ケ-ス11は頂面と底面に別々に外孔112を有し、外孔112と内孔142は同軸で扁平部12に位置付けられている。ケ-ス11は、緩衝室18と繋がる抽気孔116と、気体室16と繋がる送気孔166とを有する。【選択図】 図2
請求項（抜粋）：
一側に扁平部を有するケ-スを備え、
ケ-スは内部に少なくとも一枚の隔離板を有し、ケ-ス内部を分割して気体室を形成し、気体室は外部に少なくとも一つの緩衝室を有し、気体室の頂面と底面の隔離板に別々に内孔を有し、ケ-スは頂面と底面に別々に外孔を有し、外孔と内孔は同軸で扁平部に位置付けられ、ケ-スは緩衝室と繋がる抽気孔と気体室と繋がる送気孔とを有することを特徴とする真空または低圧環境下で気体の操作及び観察を可能にする装置。
IPC (1件)：
FI (1件)：
Fターム (2件)：
引用特許：
引用文献：
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