荷電粒子ビーム露光装置及びそこで使用するブランキング・アパーチャ・アレイ

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：石田敬 (外4名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-335888
公開番号（公開出願番号）：特開2000-164495
出願日： 1998年11月26日
公開日（公表日）： 2000年06月16日
要約：

【要約】【課題】 BAAの各開口を通過する荷電粒子ビームを、高速で確実にオン・オフ制御できる荷電粒子ビーム露光装置の実現。【解決手段】荷電粒子ビームを生成する電子銃9と、複数の開口51が配列され、開口に入射する荷電粒子ビームが試料100 上に照射されるかされないかが制御可能なブランキング・アパーチャ・アレイ50と、ブランキング・アパーチャ・アレイを通過した荷電粒子ビームを偏向する偏向手段14,16 とを備える荷電粒子ビーム露光装置において、ブランキング・アパーチャ・アレイ50は、複数の開口51と、各開口の両側に配置された第1及び第2のブランキング電極51,52 とを備え、開口を通過した荷電粒子ビームを試料上に照射する時には、第1及び第2のブランキング電極52,53 に接地電位の信号を印加し、遮断する時には、第1及び第2のブランキング電極に正負の電位の信号を同時に印加される。

請求項（抜粋）：

荷電粒子ビームを生成する電子銃と、複数の開口が配列され、該開口に入射する前記荷電粒子ビームが試料上に照射されるかされないかが制御可能なブランキング・アパーチャ・アレイと、該ブランキング・アパーチャ・アレイを通過した前記荷電粒子ビームを偏向する偏向手段とを備える荷電粒子ビーム露光装置において、前記ブランキング・アパーチャ・アレイは、前記複数の開口と、各開口の両側に配置された第1及び第2のブランキング電極とを備え、開口を通過した前記荷電粒子ビームを試料上に照射する時には、前記第1及び第2のブランキング電極に接地電位の信号を印加し、開口を通過した前記荷電粒子ビームが試料上に照射されないように遮断する時には、前記第1及び第2のブランキング電極に正負の電位の信号を同時に印加されることを特徴とする荷電粒子ビーム露光装置。

IPC (2件)：

H01L 21/027 , G03F 7/20 504

FI (2件)：

H01L 21/30 541 B , G03F 7/20 504

Fターム (6件)：

2H097CA16 , 2H097LA10 , 5F056AA07 , 5F056CB05 , 5F056EA03 , 5F056FA05

引用特許：

審査官引用 (5件)

特開昭61-069125
電子線描画装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平6-142860 出願人：株式会社日立製作所
特開昭60-106130

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