特許

J-GLOBAL ID：200903082252214293

基板処理装置、基板処理方法、半導体装置の製造方法および搬送装置

発明者： 松永 建久 ,  関山 博史
出願人/特許権者： 株式会社日立国際電気
代理人 (1件)： 梶原 辰也
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-196539
公開番号（公開出願番号）：特開2003-017543
出願日： 2001年06月28日
公開日（公表日）： 2003年01月17日
要約：

【要約】【課題】 待機室に設置されたボートエレベータをベローズで被覆する。【解決手段】 ロードロックチャンバ4の待機室3に設置されたボートエレベータ20の昇降台25の上下に第一ベローズ41と第二ベローズ42とを配設し、第一ベローズ41、第二ベローズ42の中空部内を大気圧に連通する。第一ベローズ41、第二ベローズ42に複数枚の変形防止板45を上下方向に等間隔に介設し、各変形防止板45を複数本の補助ガイドレール49によって案内する。【効果】 昇降台の上下の圧力が均衡するため、送りねじ軸やモータの駆動部を小形化でき、大気圧に連通させることで構造複雑な圧力制御弁や制御システムを省略できる。送りねじ軸やガイドレールを第一ベローズ、第二ベローズで待機室から隔離し中空部内での発塵や潤滑油ガスが待機室に侵入するのを防止できる。中空部内外の圧力差でベローズが変形されるのを変形防止板で防止できる。

請求項（抜粋）：

基板を処理する処理室と、この処理室に隣設した密閉室と、この密閉室の内部に配設されて前記基板を支持して移動する移動体と、この移動体を移動させる駆動部と、この駆動部を前記密閉室の内部空間に対して隔離するように被覆する中空伸縮体とを備えており、前記中空伸縮体は前記移動体の片側に配設された第一中空伸縮体と、前記移動体の反対側に配設された第二中空伸縮体とを備え、前記第一中空伸縮体および前記第二中空伸縮体の中空部内が前記密閉室の外部にそれぞれ連通されていることを特徴とする基板処理装置。

IPC (2件)：

H01L 21/68 ,  H01L 21/205

FI (2件)：

H01L 21/68 A ,  H01L 21/205

Fターム (22件)：

5F031CA02 ,  5F031FA01 ,  5F031FA09 ,  5F031FA12 ,  5F031GA03 ,  5F031GA47 ,  5F031GA49 ,  5F031HA67 ,  5F031MA28 ,  5F031NA04 ,  5F031NA05 ,  5F031NA14 ,  5F031NA17 ,  5F031NA18 ,  5F031PA26 ,  5F045BB08 ,  5F045BB14 ,  5F045DP19 ,  5F045EC02 ,  5F045EM10 ,  5F045EN04 ,  5F045EN05

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 縦型処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-020555   出願人：東京エレクトロン東北株式会社
• 特開昭63-077687
  
• 密閉容器内搬送装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-340780   出願人：国際電気株式会社
• 特開昭63-077687