プローブアレイ用固相基材、およびプローブアレイ

発明者：
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-204355
公開番号（公開出願番号）：特開2001-343385
出願日： 2000年06月02日
公開日（公表日）： 2001年12月14日
要約：

【要約】【課題】高いプローブ集積密度と高い検出感度とを両立するプローブアレイを提供する。【解決手段】プレート1に竪溝2を配列した固相基材を用いて、竪溝2の壁面3にプローブを保持する。

請求項（抜粋）：

プレートを備えたプローブアレイ用固相基材において、該プレートに竪溝が配列していて、かつ該竪溝が該プレートの表面に対してほぼ垂直な壁面を有していて、かつ該竪溝の幅が100マイクロメートル以下であって、かつ該竪溝の深さが該竪溝の幅の2倍以上であることを特徴とするプローブアレイ用固相基材。

IPC (7件)：

G01N 33/53 , C12M 1/00 , C12N 15/09 , G01N 33/543 501 , G01N 33/566 , G01N 35/02 , G01N 37/00 102

FI (7件)：

G01N 33/53 M , C12M 1/00 A , G01N 33/543 501 A , G01N 33/566 , G01N 35/02 F , G01N 37/00 102 , C12N 15/00 F

Fターム (19件)：

2G058AA09 , 2G058CC02 , 2G058CC08 , 2G058EA11 , 2G058GA02 , 4B024AA11 , 4B024AA19 , 4B024CA01 , 4B024CA09 , 4B024HA14 , 4B024HA19 , 4B029AA07 , 4B029AA21 , 4B029BB15 , 4B029BB17 , 4B029BB20 , 4B029CC03 , 4B029CC08 , 4B029FA15

引用特許：

審査官引用 (7件)

プローブの固相へのスポッティング方法、プローブアレイとその製造方法、及びそれを用いた標的物質の検出方法、標的物質の構造の特定化方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平10-209923 出願人：キヤノン株式会社
プローブ保持体及びその製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平10-250897 出願人：日立ソフトウエアエンジニアリング株式会社
バイオアレーチップ反応装置およびその製造方法
公報種別：公表公報出願番号：特願平8-501333 出願人：アフィマックステクノロジーズナムローゼフェンノートシャップ

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