特許
J-GLOBAL ID：200903082259565350
ハーフトーン型位相シフトマスク、ハーフトーン型位相シフトマスクの作製に用いる半透明部形成材料、及びハーフトーン型位相シフトマスクの作製方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
高月 亨
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-118121
公開番号（公開出願番号）：特開平7-325383
出願日： 1994年05月31日
公開日（公表日）： 1995年12月12日
要約：
【要約】【目的】 プロセスが容易で、簡単に実施可能なハーフトーン型位相シフトマスク、ハーフトーン型位相シフトマスクの作製に用いる半透明部形成材料、及びハーフトーン型位相シフトマスクの作製方法を提供する。【構成】?@ダイ及び感光剤入りSOGやダイ入り感光性ポリイミド等、露光光に対する吸収を有し、かつ感光性あるいは放射線感応性を有し、かつ透過した露光光の位相をシフトさせる位相シフト性を有するハーフトーン型位相シフトマスク作製用の半透明部形成材料。?A光透過部2aと、半透明部3aとを備えるハーフトーン型位相シフト露光マスクであって、?@により半透明部が形成されている。?B?@を透明基板上1に成膜Iし、これを光又は放射線によりパターン状に露光し、現像IIすることにより所望パターンの半透明部を形成するハーフトーン型位相シフト露光マスクの作製方法。
請求項（抜粋）：
光透過部と、半透明部とを備えるハーフトーン型位相シフト露光マスクであって、露光光に対する吸収を有し、かつ感光性あるいは放射線感応性を有し、かつ透過した露光光の位相をシフトさせる位相シフト性を有する材料により半透明部が形成されていることを特徴とするハーフトーン型位相シフトマスク。
IPC (2件)：
FI (2件)：
H01L 21/30 502 P
, H01L 21/30 528
