特許
J-GLOBAL ID：200903082265420399

洗浄装置

発明者：
蔭山 剛志

蔭山 剛志 について

, 
谷 伸夫

谷 伸夫 について


出願人/特許権者：
大日本スクリーン製造株式会社

大日本スクリーン製造株式会社 について


公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-001005
公開番号（公開出願番号）：特開2001-191037
出願日： 2000年01月06日
公開日（公表日）： 2001年07月17日
要約：
【要約】【課題】CMP処理等の加工処理した後の基板の表裏面に付着した研磨屑等のパーティクルを除去する洗浄装置での洗浄効果を高める。【解決手段】ウェハWに洗浄処理を行う基板処理装置100であって、CMP装置200によりCMP処理されたウェハWを洗浄するための複数の処理部30,40,50へ基板Wを順次搬送する。処理部30では保持ハンド35aの本体部39上に保持用ローラ80(a〜c )と周縁部洗浄具90(a,b)が配置される。ウェハWは保持ハンド35aと同様の保持ハンド35bにより保持されると同時に周縁部洗浄具90が洗浄位置に配置される。保持用ローラ80の回転により回転されるウェハWの表裏は両面洗浄装置34により洗浄され、同時に周縁部は周縁部洗浄具90の洗浄用弾性部材93により洗浄される。
請求項（抜粋）：
薄板状の被処理体を基板保持手段にて保持して処理する洗浄装置において、基板保持手段は、被処理体の中心に対して接近または離隔するように移動する本体部と、前記本体部に配置され、被処理体の周縁部に当接して被処理体を保持するための少なくとも3本の保持具と、前記保持具のうち少なくとも1本の保持具を回転させるための回転駆動部と、本体部に配設された被処理体の周縁部を洗浄する周縁部洗浄具と、を具備し、前記周縁部洗浄具は、保持具が被処理体を保持すると同時に、被処理体の周縁部に接触するよう本体部に配置されることを特徴とする洗浄装置。
IPC (4件)：
B08B 1/04 ,  B08B 3/04 ,  B08B 7/04 ,  H01L 21/304 644
FI (4件)：
B08B 1/04 ,  B08B 3/04 Z ,  B08B 7/04 A ,  H01L 21/304 644 G
Fターム (33件)：
3B116AA03 ,  3B116AB23 ,  3B116AB34 ,  3B116AB42 ,  3B116BA02 ,  3B116BA08 ,  3B116BA13 ,  3B116BA14 ,  3B116BB01 ,  3B116BB24 ,  3B116BB62 ,  3B116CC01 ,  3B116CC03 ,  3B116CD23 ,  3B116CD42 ,  3B116CD43 ,  3B201AA03 ,  3B201AB23 ,  3B201AB34 ,  3B201AB42 ,  3B201BA02 ,  3B201BA08 ,  3B201BA13 ,  3B201BA14 ,  3B201BB05 ,  3B201BB24 ,  3B201BB62 ,  3B201BB93 ,  3B201CC01 ,  3B201CC13 ,  3B201CD23 ,  3B201CD42 ,  3B201CD43
引用特許：
出願人引用 (3件)
  • 基板処理装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-030511   出願人：大日本スクリーン製造株式会社
  • 特開平4-345029
  • ウェハ洗浄装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-120400   出願人：三菱電機株式会社
審査官引用 (3件)
  • 基板処理装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-030511   出願人：大日本スクリーン製造株式会社
  • 特開平4-345029
  • ウェハ洗浄装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-120400   出願人：三菱電機株式会社

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