特許
J-GLOBAL ID：200903082289737970

真空処理装置及び真空処理方法

発明者：
田村 直行

田村 直行 について


出願人/特許権者：
株式会社日立ハイテクノロジーズ

株式会社日立ハイテクノロジーズ について


代理人 (1件)： 武 顕次郎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-062244
公開番号（公開出願番号）：特開2003-264214
出願日： 2002年03月07日
公開日（公表日）： 2003年09月19日
要約：
【要約】【課題】搬送位置のずれを最終ステージの直前で検出して補正することにより精度のよい搬送を行う。【解決手段】所定位置に搬入した試料に所定の処理を施す真空処理室30a,30bと、大気中に備えられ、大気中にある試料を真空搬送装置10に搬送する大気搬送装置7と、大気と前記真空処理室を接続する真空搬送室2に備えられ、前記大気搬送装置から受け取った試料を前記真空処理室の前記所定位置に搬送する真空搬送装置10と、前記処理室の搬入路の近傍に設けられ、前記搬入試料の位置ずれを検出する試料位置検出装置11a,11b,11c,11dを備えた。
請求項（抜粋）：
所定位置に搬入した試料に所定の処理を施す真空処理室と、大気中に備えられ、大気中にある試料を真空搬送装置に搬送する大気搬送装置と、大気と前記真空処理室を接続する真空搬送室に備えられ、前記大気搬送装置から受け取った試料を前記真空処理室の前記所定位置に搬送する真空搬送装置と、前記処理室の搬入路の近傍に設けられ、前記搬入試料の位置ずれを検出する試料位置検出手段を備えたことを特徴とする真空処理装置。
FI (2件)：
H01L 21/68 A ,  H01L 21/68 F
Fターム (19件)：
5F031CA02 ,  5F031FA01 ,  5F031FA11 ,  5F031FA12 ,  5F031FA15 ,  5F031GA36 ,  5F031JA04 ,  5F031JA05 ,  5F031JA17 ,  5F031JA36 ,  5F031KA11 ,  5F031KA13 ,  5F031KA14 ,  5F031MA04 ,  5F031MA23 ,  5F031MA32 ,  5F031NA05 ,  5F031NA09 ,  5F031PA30
引用特許：
審査官引用 (5件)
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