特許
J-GLOBAL ID：200903082375424020

洗浄方法および洗浄装置

発明者：
山崎 和俊

山崎 和俊 について

, 
藤森 洋治

藤森 洋治 について


出願人/特許権者：
山崎 和俊

山崎 和俊 について

, 
積水化学工業株式会社

積水化学工業株式会社 について


代理人 (4件)： 細井 貞行 ,  長南 満輝男 ,  石渡 英房 ,  中村 正道
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-094507
公開番号（公開出願番号）：特開2006-278644
出願日： 2005年03月29日
公開日（公表日）： 2006年10月12日
要約：
【課題】 界面活性剤による洗浄作用と、オゾンによる分解,殺菌作用を同時に得ることができる新規な洗浄方法及び洗浄装置を提供すること。【解決手段】 下記一般式で表される炭素間二重結合を持たない飽和脂肪族系界面活性剤の溶液に、オゾンを溶解させたオゾン含有洗浄液を用いて、界面活性剤による洗浄と、オゾンによる分解,殺菌を一工程で行う。 (R)n-X (式中、Rは飽和炭化水素または飽和ハロゲン化炭素化合物からなる疎水性基、 nは1〜3の整数、Xは炭素間二重結合および芳香族基を持たないエーテル基、 水酸基、エステル基、カルボキシル基、スルホン基、アミノ基の内のいずれか1 つを有する親水性基化合物を表す。)【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
下記一般式で表される炭素間二重結合を持たない飽和脂肪族系界面活性剤の溶液に、オゾンを溶解させたオゾン含有洗浄液を用いて、界面活性剤による洗浄と、オゾンによる分解,殺菌とを同時に行うことを特徴とする洗浄方法。 (R)n-X (式中、Rは飽和炭化水素または飽和ハロゲン化炭素化合物からなる疎水性基、 nは1〜3の整数、Xは炭素間二重結合および芳香族基を持たないエーテル基、 水酸基、エステル基、カルボキシル基、スルホン基、アミノ基の内のいずれか1 つを有する親水性基化合物を表す。)
IPC (5件)：
H01L 21/304 ,  A61L 2/20 ,  B01F 5/06 ,  B08B 3/08 ,  C11D 3/39
FI (6件)：
H01L21/304 647B ,  H01L21/304 647Z ,  A61L2/20 J ,  B01F5/06 ,  B08B3/08 Z ,  C11D3/39
Fターム (30件)：
3B201AA02 ,  3B201AA03 ,  3B201AA46 ,  3B201AB01 ,  3B201BB02 ,  3B201BB05 ,  3B201BB82 ,  3B201BB92 ,  3B201CB01 ,  3B201CC01 ,  3B201CC11 ,  4C058AA14 ,  4C058AA15 ,  4C058BB07 ,  4C058JJ06 ,  4C058JJ14 ,  4C058JJ21 ,  4G035AA01 ,  4G035AB05 ,  4G035AC26 ,  4G035AE17 ,  4H003AB27 ,  4H003AC03 ,  4H003AC08 ,  4H003DA15 ,  4H003DA20 ,  4H003EA20 ,  4H003ED02 ,  4H003FA28 ,  4H003FA34
引用特許：
出願人引用 (2件) 審査官引用 (1件)
  • 洗浄装置及び洗浄方法
    公報種別：公開公報   出願番号：特願2002-188402   出願人：積水化学工業株式会社, 株式会社ケミトロニクス

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