特許

J-GLOBAL ID：200903048109219876

基板洗浄装置及び洗浄方法

発明者： 山崎 和俊 ,  古野 喜彦 ,  本間 孝治
出願人/特許権者： 積水化学工業株式会社 ,  株式会社ケミトロニクス
代理人 (1件)： 安富 康男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-199714
公開番号（公開出願番号）：特開2003-010795
出願日： 2001年06月29日
公開日（公表日）： 2003年01月14日
要約：

【要約】【課題】 一旦洗浄に用いたオゾン水を再利用することができ、また、高濃度のオゾン水でバッチ処理を行うことができる基板洗浄装置を提供する。【解決手段】 少なくとも、水にオゾンガスを溶解する工程が行われるオゾン溶解モジュールと、オゾン水で基板を洗浄する工程が行われる反応槽とを有する基板洗浄装置であって、前記オゾン溶解モジュール内には、非多孔性膜からなるガス溶解膜が収容されており、前記反応槽と前記オゾン溶解モジュールとの間をオゾン水が循環する基板洗浄装置。

請求項（抜粋）：

少なくとも、水にオゾンガスを溶解する工程が行われるオゾン溶解モジュールと、オゾン水で基板を洗浄する工程が行われる反応槽とを有する基板洗浄装置であって、前記オゾン溶解モジュール内には、非多孔性膜からなるガス溶解膜が収容されており、前記反応槽と前記オゾン溶解モジュールとの間をオゾン水が循環することを特徴とする基板洗浄装置。

IPC (2件)：

B08B 3/08 ,  H01L 21/304 648

FI (2件)：

B08B 3/08 Z ,  H01L 21/304 648 G

Fターム (8件)：

3B201AA02 ,  3B201AA03 ,  3B201BB89 ,  3B201BB90 ,  3B201BB92 ,  3B201BB98 ,  3B201BC01 ,  3B201CD22

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 基板処理装置および基板処理方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-333291   出願人：大日本スクリーン製造株式会社
• スパイラル型膜モジュール
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-092028   出願人：日東電工株式会社
• オゾン水洗浄方法及び装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-257369   出願人：セイコーエプソン株式会社
• 半導体ウエハのオゾン水洗浄システム
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-226058   出願人：沖電気工業株式会社