特許
J-GLOBAL ID：200903082466241344
薄膜磁気ヘッド、及びその薄膜磁気ヘッドの製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-281740
公開番号（公開出願番号）：特開2002-092818
出願日： 2000年09月12日
公開日（公表日）： 2002年03月29日
要約：
【要約】【課題】 ライトフリンジングを抑制して、高記録密度化に対応できる薄膜磁気ヘッドを提供する。【解決手段】 下部コア層6のギャップ形成面6sを、上部コア層11のギャップ形成面11sと磁気ギャップGを介して対向する面、上部コア層11のギャップ形成面11sを、磁気ギャップGを介して、下部コア層6のギャップ形成面6sの全面と非磁性層12に対向する面として、下部コア層6のギャップ形成面6sのトラック幅方向寸法を、上部コア層11のギャップ形成面11sのトラック幅方向の寸法よりも小さくした。
請求項（抜粋）：
軟磁性材料薄膜からなる下部コア層と、該下部コア層上に形成された良導電材料薄膜からなるコイル層と、該コイル層を介して前記下部コア層と対向する軟磁性材料薄膜からなる上部コア層とを有し、互いに対向する前記上部コア層のギャップ形成面と前記下部コア層のギャップ形成面との間には、絶縁材料薄膜からなるギャップ層が挟持されて、磁気ギャップが設けられ、前記下部コア層における前記ギャップ形成面のトラック幅寸法は、前記上部コア層における前記ギャップ形成面のトラック幅寸法よりも小さいことを特徴とする薄膜磁気ヘッド。
Fターム (4件)：
5D033BA12
, 5D033CA02
, 5D033DA08
, 5D033DA31
