特許
J-GLOBAL ID：200903082544470908
局部エッチング装置及び局部エッチング方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
塚原 孝和
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-004562
公開番号（公開出願番号）：特開2000-208487
出願日： 1999年01月11日
公開日（公表日）： 2000年07月28日
要約：
【要約】【課題】 プラズマ放電の点火前に放電管を予熱しておくことにより、局部エッチング処置のスループットの向上を図った局部エッチング装置及び局部エッチング方法を提供する。【解決手段】 局部エッチング装置は、プラズマ発生器1とアルミナ放電管2と加熱器6とを具備している。そして、加熱器6を、電熱線60と、電熱線60に電圧を印加するための電源61と、電源61から電熱線60に印加する電圧を制御する電圧昇降器62とで構成した。これにより、プラズマ発生器1によるプラズマ放電直前まで、加熱器6によってアルミナ放電管2を所望温度迄加熱しておくことができる。この結果、アルミナ放電管2がプラズマ放電による熱によって所望温度まで昇温するまで局部エッチング処理作業を待つ必要がなく、プラズマ放電後直ちに、局部エッチング処理作業を行うことができる。
請求項（抜粋）：
ノズル部の噴射口を被エッチング物に向ける放電管と、上記放電管内の所定のガスをプラズマ放電させて、上記被エッチング物の表面に存在する相対厚部を局部エッチングするためのラジカルを生成するプラズマ発生器と、上記放電管を所定温度に加熱する加熱器とを具備することを特徴とする局部エッチング装置。
IPC (2件)：
FI (2件)：
H01L 21/302 L
, C23F 4/00 A
4K057DA04
, 4K057DB06
, 4K057DG14
, 4K057DM28
, 4K057DN01
, 5F004AA11
, 5F004BA03
, 5F004BA11
, 5F004BB15
, 5F004BB20
, 5F004BB21
, 5F004BC03
, 5F004CA02
, 5F004DB01
