特許
J-GLOBAL ID：200903004494144620
大気圧プラズマ生成方法および装置並びに表面処理方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
鈴木 喜三郎 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-169010
公開番号（公開出願番号）：特開平10-275698
出願日： 1997年06月25日
公開日（公表日）： 1998年10月13日
要約：
【要約】【課題】 ヘリウムガスなどの希ガスの使用量を大幅に減少することができ、且つ大気圧下でプラズマを容易に生成できるようにする。【解決手段】 誘電体1、1によって形成したガス流路23に、酸素ガスボンベ34とヘリウムガスボンベ36とから酸素ガスとヘリウムガスとを供給するとともに、電極2a、2b間に高周波電源いよって高周波電圧を印加し、プラズマ生成領域22にプラズマを発生させる。その後、ヘリウムガスの供給を停止し、酸素ガスのみによるプラズマを生成し、それにより生ずる活性種を被処理体8に照射して被処理体のアッシング処理やエッチング処理などを行う。
請求項（抜粋）：
誘電体により形成した大気圧又はその近傍の圧力下にあるプラズマ生成領域に放電用ガスを導入し、前記誘電体を挟んで設けた第1電極と第2電極とに高周波電圧を印加してプラズマを発生させる大気圧プラズマ生成方法において、希ガスと表面処理用ガスとの混合ガスを前記プラズマ生成領域に供給してプラズマを発生させ、その後、前記希ガスの供給を停止することを特徴とする大気圧プラズマ生成方法。
IPC (5件)：
H05H 1/46
, C23F 4/00
, H01L 21/027
, H01L 21/3065
, H01L 21/304 341
H05H 1/46 M
, C23F 4/00 Z
, H01L 21/304 341 D
, H01L 21/30 572 A
, H01L 21/302 B
