特許
J-GLOBAL ID：200903029409448384
プラズマエッチング方法及びその装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
塚原 孝和
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-322241
公開番号（公開出願番号）：特開平10-147893
出願日： 1996年11月18日
公開日（公表日）： 1998年06月02日
要約：
【要約】【課題】 プラズマ発生部における活性種ガスの噴射口と被エッチング物の表面との距離を変化させることができるようにして、平坦化処理作業時間の短縮化と設備コストの低減化とを図ったプラズマエッチング方法及びその装置を提供する。【解決手段】 プラズマ発生器2における一定口径の噴射口20aをウエハ110の所望の凸部に対向させ、活性種ガスであるFガスGを噴射口20aから凸部に噴射してエッチングする。このとき、噴射口20aとウエハ110の凸部との距離をZ駆動機構4によって変えることで、凸部の大きさに対応したエッチング領域を確保し、ウエハ110の効率的な平坦化を行う。
請求項（抜粋）：
プラズマ発生部における一定口径の噴射口を被エッチング物の所定の凸部に対向させ、活性種ガスを上記噴射口から上記凸部に噴射してエッチングすることで、上記凸部を平坦化するプラズマエッチング方法において、上記噴射口と上記凸部との距離を変えることで、上記凸部の大きさに対応したエッチング領域を確保する、ことを特徴とするプラズマエッチング方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
C23F 4/00 A
, H01L 21/302 A
