特許
J-GLOBAL ID：200903082554214586

ウエット処理方法、ウエット処理装置および半導体装置の製造方法とアクティブマトリックス型表示装置の製造方法

発明者：
速水 直哉

速水 直哉 について

, 
藤田 博

藤田 博 について


出願人/特許権者：
株式会社東芝

株式会社東芝 について


代理人 (1件)： 大胡 典夫 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-036307
公開番号（公開出願番号）：特開2003-243354
出願日： 2002年02月14日
公開日（公表日）： 2003年08月29日
要約：
【要約】【課題】 被洗浄物に照射される音波の均一性を向上させたウエット処理装置と処理方法、ならびに、それを用いた半導体装置の製造方法およびアクティブマトリックス型表示装置の製造方法を提供すること。【解決手段】 第1の処理槽3の処理液2中に立位状態に浸漬している被処理物1の表裏両面に対して、第1の処理槽3が挿入された第2の処理槽5で、被処理物1の表裏面にそれぞれ対向する位置の側板12に配置されている超音波振動子4を駆動させて被処理物1に超音波を照射する。
請求項（抜粋）：
第1の処理槽の処理液中に浸漬している被処理物の表裏両面に対して、前記第1の処理槽が挿入された第2の処理槽の前記被処理物の表裏面とそれぞれ対向する位置に配置された超音波振動子から超音波を照射することを特徴とするウエット処理方法。
IPC (8件)：
H01L 21/306 ,  G02F 1/13 101 ,  G02F 1/1362 ,  H01L 21/027 ,  H01L 21/336 ,  H01L 29/786 ,  G03F 7/42 ,  H01L 21/304 642
FI (8件)：
G02F 1/13 101 ,  G02F 1/1362 ,  G03F 7/42 ,  H01L 21/304 642 E ,  H01L 21/306 S ,  H01L 29/78 612 A ,  H01L 21/30 572 B ,  H01L 29/78 627 Z
Fターム (40件)：
2H088FA21 ,  2H088HA01 ,  2H088HA08 ,  2H088MA20 ,  2H092HA04 ,  2H092JA24 ,  2H092MA13 ,  2H092MA17 ,  2H092NA29 ,  2H092PA01 ,  2H096AA25 ,  2H096LA02 ,  5F043BB25 ,  5F043CC16 ,  5F043DD15 ,  5F043DD19 ,  5F043EE05 ,  5F046MA06 ,  5F110AA26 ,  5F110BB01 ,  5F110CC02 ,  5F110DD02 ,  5F110EE06 ,  5F110EE47 ,  5F110FF01 ,  5F110FF02 ,  5F110FF35 ,  5F110GG02 ,  5F110GG13 ,  5F110GG44 ,  5F110HJ13 ,  5F110HL03 ,  5F110HL26 ,  5F110NN02 ,  5F110NN24 ,  5F110NN39 ,  5F110PP03 ,  5F110PP31 ,  5F110QQ11 ,  5F110QQ21
引用特許：
審査官引用 (3件)
  • 特開平4-247276
  • 洗浄装置及び洗浄方法
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平3-262287   出願人：三菱電機株式会社
  • 超音波洗浄装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-134671   出願人：ソニー株式会社

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