特許
J-GLOBAL ID：200903082617207526

皮膚組成物

発明者：
田中 弘

田中 弘 について


出願人/特許権者：
株式会社ナリス化粧品

株式会社ナリス化粧品 について


公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-189617
公開番号（公開出願番号）：特開2003-002819
出願日： 2001年06月22日
公開日（公表日）： 2003年01月08日
要約：
【要約】 (修正有)【目的】8-OHdG産生を抑えて、シミ・シワの予防又は改善を可能にする8-OHdG産生抑制剤の提供。【解決手段】カテキン類及び/又はその配糖体、フラボン類及び/又はその配糖体、フラボノール類及び/又はその配糖体、フラバノン類及び/又はその配糖体、イソフラボン類及び/又はその配糖体、クマリン類及び/又はその配糖体、ビチス属、プランタゴ属、リナム属、カーサマス属、ゴシピウム属、ローズマリー属、バンザクロ属、ユーカリ属、グナファリウム属、サイムス属、シリンガ属、マツ属に属する植物の抽出物の群より1種又は2種以上からなる8-OHdG(8-ハイドロキシデオキシグアノシン)産生抑制剤を配合することを特徴とする化粧料。【効果】8-OHdG産生抑制剤は、細胞において紫外線によりDNA中の8-OHdG産生を抑制し、シミ・シワの予防又は改善効果が期待できる。
請求項（抜粋）：
カテキン類および/又はその配糖体、フラボン類および/又はその配糖体、フラボノール類および/又はその配糖体、フラバノン類および/又はその配糖体、イソフラボン類および/又はその配糖体、クマリン類および/又はその配糖体の1種又は2種以上からなる8-OHdG(8-ハイドロキシデオキシグアノシン)産生抑制剤を配合することを特徴とする化粧料。
IPC (2件)：
A61K 7/48 ,  A61K 7/00
FI (5件)：
A61K 7/48 ,  A61K 7/00 D ,  A61K 7/00 H ,  A61K 7/00 K ,  A61K 7/00 W
Fターム (32件)：
4C083AA082 ,  4C083AA111 ,  4C083AA112 ,  4C083AB032 ,  4C083AB052 ,  4C083AB242 ,  4C083AB442 ,  4C083AC012 ,  4C083AC022 ,  4C083AC072 ,  4C083AC102 ,  4C083AC122 ,  4C083AC182 ,  4C083AC242 ,  4C083AC422 ,  4C083AC442 ,  4C083AC841 ,  4C083AC842 ,  4C083AD092 ,  4C083AD112 ,  4C083BB51 ,  4C083CC04 ,  4C083CC05 ,  4C083CC07 ,  4C083DD23 ,  4C083DD31 ,  4C083EE01 ,  4C083EE06 ,  4C083EE07 ,  4C083EE10 ,  4C083EE16 ,  4C083EE17
引用特許：
出願人引用 (38件)
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審査官引用 (38件)
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