特許
J-GLOBAL ID：200903082618849351

ロードポート、基板処理装置および雰囲気置換方法

発明者：
徳永 謙二

徳永 謙二 について


出願人/特許権者：
株式会社半導体先端テクノロジーズ

株式会社半導体先端テクノロジーズ について


代理人 (1件)： 高田 守 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-233959
公開番号（公開出願番号）：特開2003-045933
出願日： 2001年08月01日
公開日（公表日）： 2003年02月14日
要約：
【要約】【課題】 ウェハキャリア内の雰囲気置換を、効率良く、短時間で行う。【解決手段】 ウェハキャリア100の一面をなすキャリアドア20をロードポートドア32により開けた状態で、ウェハキャリア100の開放面101からウェハキャリア100の内部をパージする。上部壁面45、下部壁面46およびEFEMドア43によりミニエンバイロンメント40を開放面101に隣接する所定の空間に仕切り、この所定の空間内の気体を排出口48から排出するとともに、ガス供給口47から所定の空間に不活性ガス又はドライエアを供給することでパージを行う。
請求項（抜粋）：
ウェハキャリアを載置するロードポートであって、前記ウェハキャリアの一面をなすキャリアドアを開閉する第1のドアと、前記キャリアドアが開いた状態で、前記ウェハキャリアの開放面から該ウェハキャリアの内部をパージする雰囲気置換機構と、を備えたことを特徴とするロードポート。
FI (2件)：
H01L 21/68 A ,  H01L 21/68 T
Fターム (19件)：
5F031CA02 ,  5F031DA08 ,  5F031EA11 ,  5F031EA12 ,  5F031EA14 ,  5F031EA20 ,  5F031FA11 ,  5F031GA02 ,  5F031GA19 ,  5F031GA60 ,  5F031KA20 ,  5F031MA17 ,  5F031MA23 ,  5F031NA02 ,  5F031NA04 ,  5F031NA09 ,  5F031NA10 ,  5F031NA15 ,  5F031NA16
引用特許：
審査官引用 (7件)
  • 被処理体の収納装置及び搬出入ステージ
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-122862   出願人：東京エレクトロン株式会社
  • 特表平4-505234
  • 基板処理装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-311822   出願人：大日本スクリーン製造株式会社
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