特許

J-GLOBAL ID：200903082629773349

洗浄装置

発明者： 久保田 稔 ,  宮本 健一 ,  田中 秀哉 ,  樋口 良治
出願人/特許権者： 東京エレクトロン株式会社
代理人 (1件)： 須山 佐一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-197226
公開番号（公開出願番号）：特開平11-040530
出願日： 1997年07月23日
公開日（公表日）： 1999年02月12日
要約：

【要約】【課題】 ウエハのような被洗浄体を均一にかつ高い洗浄度で清浄することができる洗浄装置を提供する。【解決手段】 ウエハWを水平面内で回転させるスピンチャック9と、ウエハW表面を摺擦するブラシ10bを先端側に備え、基端部を中心に水平面内を旋回可能に配設されたブラシアーム10aと、このブラシアーム10aに対して旋回駆動力を与える回転ドライバ22と、この回転ドライバ22を制御する制御装置とから構成される。制御装置はブラシアーム10aの旋回速度を制御して異物付着量の多いウエハW外周縁付近では遅く旋回させる一方、異物付着量の少ないウエハW中心付近では早く旋回させ、異物の十分な除去と清浄な表面の汚染を防ぐ。

請求項（抜粋）：

被洗浄体を支持しつつ回転する被洗浄体支持機構と、回転可能な洗浄体と、前記洗浄体を回転しつつ前記被洗浄体に接触させる洗浄体支持機構と、前記洗浄体の接触位置が前記被洗浄体のほぼ中心から外周に向かうように、前記洗浄体支持機構と前記被洗浄体支持機構とを相対的に移動させる移動機構と、前記移動機構による移動速度を適応的に制御する制御手段とを具備することを特徴とする洗浄装置。

IPC (3件)：

H01L 21/304 341 ,  H01L 21/304 ,  B08B 3/04

FI (4件)：

H01L 21/304 341 N ,  H01L 21/304 341 M ,  H01L 21/304 341 S ,  B08B 3/04 B

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 回転式基板処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-307714   出願人：大日本スクリーン製造株式会社
• 半導体基板の洗浄方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-284790   出願人：株式会社東芝, 東芝マイクロエレクトロニクス株式会社