特許
J-GLOBAL ID：200903082670112090

光軸が傾いた光学異方フィルムの製造方法

発明者：
長谷部 浩史

長谷部 浩史 について


出願人/特許権者：
大日本インキ化学工業株式会社

大日本インキ化学工業株式会社 について


代理人 (1件)： 高橋 勝利
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-053588
公開番号（公開出願番号）：特開2003-255127
出願日： 2002年02月28日
公開日（公表日）： 2003年09月10日
要約：
【要約】重合性液晶材料を磁場で配向させ、その状態で硬化させることにより光軸が傾いた光学異方フィルムを製造する工程において、磁場配向工程の前に配向欠陥を除去する工程を設けることを特徴とする光軸が傾いた光学異方フィルムの製造方法。【課題】 磁石の技術上やコスト上の制約を大きく受けることなく、光軸が傾いた光学異方フィルムを生産性良く製造する方法を提供する。【解決手段】 磁場配向の前に配向欠陥の除去をする工程を設ける。【効果】 磁場配向を用いた光軸が傾いた光学異方フィルムの製造において、装置及び維持コストが高い電磁石の使用時間を短縮することができる。もしくは、使用時間が同じであれば電磁石の強さが弱くても良い。つまり、電磁石の技術的障壁を低くすることができ、光学異方フィルムの大面積化を容易にすることができる。
請求項（抜粋）：
(第一工程)重合性液晶材料を基板上に坦持して、または2枚の基板間に挟持して、重合性液晶材料層を得る工程と、(第二工程)電場印加、磁場印加、または電場と磁場の印加により重合性液晶材料層を、実質上配向欠陥が無い状態にする配向欠陥除去工程と、(第三工程)磁場により重合性液晶材料層を均一配向させ、該配向状態で重合性液晶材料に活性エネルギー線を照射して硬化させる工程とを有する光軸が傾いた光学異方フィルムの製造方法。
IPC (6件)：
G02B 5/30 ,  B29C 39/02 ,  G02F 1/1334 ,  G02F 1/13363 ,  B29L 7:00 ,  B29L 11:00
FI (6件)：
G02B 5/30 ,  B29C 39/02 ,  G02F 1/1334 ,  G02F 1/13363 ,  B29L 7:00 ,  B29L 11:00
Fターム (39件)：
2H049BA06 ,  2H049BA42 ,  2H049BC06 ,  2H089HA04 ,  2H089KA08 ,  2H089QA05 ,  2H089QA11 ,  2H089QA12 ,  2H089QA13 ,  2H089QA15 ,  2H089RA04 ,  2H089SA02 ,  2H089SA18 ,  2H089TA06 ,  2H091FA11 ,  2H091FC21 ,  2H091FC29 ,  2H091FC30 ,  2H091FD07 ,  2H091FD10 ,  2H091FD12 ,  2H091GA01 ,  2H091HA06 ,  2H091JA02 ,  2H091KA02 ,  2H091LA03 ,  2H091LA11 ,  2H091LA12 ,  2H091LA13 ,  2H091LA16 ,  4F204AA24 ,  4F204AA44 ,  4F204AB04 ,  4F204AC07 ,  4F204AG01 ,  4F204AH73 ,  4F204AM26 ,  4F204AM27 ,  4F204AM29
引用特許：
審査官引用 (6件)
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