特許
J-GLOBAL ID：200903082739461300

薬液供給システムおよび基板処理システム

発明者：
村上 政明

村上 政明 について

, 
橋本 隆浩

橋本 隆浩 について


出願人/特許権者：
東京エレクトロン株式会社

東京エレクトロン株式会社 について


代理人 (1件)： 高山 宏志
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-286467
公開番号（公開出願番号）：特開2000-114153
出願日： 1998年10月08日
公開日（公表日）： 2000年04月21日
要約：
【要約】【課題】 ポンプによる脈動を生じることなく、常時所定の一定圧力により現像液等の薬液を各処理ユニットに圧送することができる薬液供給システムおよび基板処理システムを提供すること。【解決手段】 現像液が現像液供給源から現像液流路71を介してバッファタンク73に圧送され、このバッファタンク73から現像処理ユニット(DEV)に現像液が所定量ごとに吐出され、この現像液の所定量ごとの吐出が終了する度毎に、現像液供給源からバッファタンク73に現像液が補填されるようになっている。
請求項（抜粋）：
薬液供給源から各処理ユニットに薬液を圧送して供給するための薬液供給システムであって、前記薬液供給源から薬液流路を介して圧送された薬液を貯留するためのバッファタンクと、前記バッファタンクから各処理ユニットに、薬液を所定量ごとに吐出するための吐出手段と、前記薬液流路に介装され、薬液流路を開閉する薬液流路開閉弁と、前記バッファタンクからの薬液の所定量ごとの吐出が終了する度ごとに、前記薬液供給源から前記バッファタンクに薬液を導入して補填するように、前記薬液流路開閉弁を開にする制御手段とを具備することを特徴とする薬液供給システム。
IPC (2件)：
H01L 21/027 ,  G03F 7/30 501
FI (2件)：
H01L 21/30 569 A ,  G03F 7/30 501
Fターム (7件)：
2H096AA25 ,  2H096GA30 ,  5F046JA22 ,  5F046LA03 ,  5F046LA04 ,  5F046LA14 ,  5F046LA18
引用特許：
審査官引用 (3件)

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