特許
J-GLOBAL ID：200903082791002046
金型の製造方法および当該方法によって得られた金型を用いた防眩フィルムの製造方法
発明者：
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,
出願人/特許権者：
代理人 (7件)：
深見 久郎
, 森田 俊雄
, 仲村 義平
, 堀井 豊
, 野田 久登
, 酒井 將行
, 荒川 伸夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-283865
公開番号（公開出願番号）：特開2009-107284
出願日： 2007年10月31日
公開日（公表日）： 2009年05月21日
要約：
【課題】高い防眩機能を示す防眩フィルムの製作に有用な、表面に微細な凹凸形状を有する金型の製造方法を提供し、その金型を用いて、優れた防眩機能を示しながら、白ちゃけによる視認性の低下が十分に防止され、高精細の画像表示装置の表面に配置したときにギラツキの発生しない防眩フィルムを製造する方法を提供する。【解決手段】金型用基材の表面に銅めっきまたはニッケルめっきを施す第1めっき工程と、第1めっき工程によってめっきが施された表面を研磨する研磨工程と、研磨された面に第一の微粒子をぶつけて凹凸を形成する凹凸形成工程と、第一の微粒子とは異なる大きさの第二の微粒子をぶつけて先に形成された凹凸形状を調整する凹凸調整工程と、第二の微粒子により調整された後の凹凸形状を鈍らせる加工を施す鈍化工程と、鈍らせた凹凸面にクロムめっきを施す第2めっき工程とを含む金型の製造方法、ならびにそれを用いた防眩フィルムの製造方法。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
金型用基材の表面に銅めっきまたはニッケルめっきを施す第1めっき工程と、
第1めっき工程によってめっきが施された表面を研磨する研磨工程と、
研磨された面に第一の微粒子をぶつけて凹凸を形成する凹凸形成工程と、
第一の微粒子とは異なる大きさの第二の微粒子をぶつけて凹凸形成工程で形成された凹凸形状を調整する凹凸調整工程と、
第二の微粒子により調整された後の凹凸形状を鈍らせる加工を施す鈍化工程と、
鈍らせた凹凸面にクロムめっきを施す第2めっき工程とを含む、金型の製造方法。
IPC (3件)：
B29C 33/38
, B29C 59/02
, B29C 33/42
B29C33/38
, B29C59/02 B
, B29C33/42
4F202AA01
, 4F202AA44
, 4F202AB03
, 4F202AC03
, 4F202AE10
, 4F202AF01
, 4F202AF15
, 4F202AF16
, 4F202AG01
, 4F202AG03
, 4F202AJ02
, 4F202AJ08
, 4F202AR12
, 4F202AR13
, 4F202CA19
, 4F202CB01
, 4F202CD12
, 4F202CD24
, 4F202CD25
, 4F202CK11
, 4F209AD08
, 4F209AF01
, 4F209AG05
, 4F209AH73
, 4F209AH75
, 4F209AJ02
, 4F209AJ08
, 4F209AJ09
, 4F209PA02
, 4F209PB01
, 4F209PC01
, 4F209PC05
, 4F209PN06
, 4F209PN09
, 4F209PQ11
出願人引用 (12件)
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審査官引用 (2件)
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