特許

J-GLOBAL ID：200903082814496661

X線分析装置

発明者： 大澤 澄人
出願人/特許権者： 株式会社堀場製作所
代理人 (2件)： 河野 登夫 ,  河野 英仁
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-255798
公開番号（公開出願番号）：特開2004-093405
出願日： 2002年08月30日
公開日（公表日）： 2004年03月25日
要約：

【課題】X線照射手段のX線出力部及び2次X線検出手段の2次X線入力部にかかる圧力差又は圧力差の変化などの負荷を減少させて耐久性を向上させるX線分析装置を提供する。【解決手段】先端部にX線及び蛍光X線を透過させるX線透過膜26で塞がれた凹部41が設けられ、該凹部41のX線透過膜26よりも内側に、X線を照射するX線照射手段12、14および特性X線を検出する特性X線検出手段16が配置されたプローブ40と、前記凹部41のX線透過膜26よりも内側の気体を排出する排出手段32,34と、前記凹部41のX線透過膜26よりも内側への気体の吸入を防止する吸入防止手段42とを備え、前記凹部41を真空状態に保つ。【選択図】 図1

請求項（抜粋）：

X線照射手段から被照射体に1次X線を照射した際に生じる2次X線を2次X線検出手段で検出するX線分析装置において、 X線を透過させるX線透過体で塞がれた凹部が形成され、該凹部にX線照射手段のX線出力部および2次X線検出手段の2次X線入力部が配置されたプローブと、 前記凹部内を真空状態に保つ真空保持手段と を備えることを特徴とするX線分析装置。

IPC (3件)：

G01N23/223 ,  G01T7/00 ,  G21K1/06

FI (3件)：

G01N23/223 ,  G01T7/00 A ,  G21K1/06 G

Fターム (16件)：

2G001AA01 ,  2G001BA04 ,  2G001CA01 ,  2G001PA07 ,  2G088EE30 ,  2G088FF02 ,  2G088FF03 ,  2G088FF15 ,  2G088GG21 ,  2G088JJ01 ,  2G088JJ08 ,  2G088JJ09 ,  2G088JJ10 ,  2G088JJ23 ,  2G088JJ37 ,  2G088LL22

引用特許：

審査官引用 (2件)

• X線分析装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-142737   出願人：株式会社堀場製作所
• 蛍光X線分析装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-310057   出願人：理学電機工業株式会社