特許
J-GLOBAL ID：200903082834880840

ステップ・アンド・リピート装置

発明者：
バーン・ジン・リン

バーン・ジン・リン について


出願人/特許権者：
インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレイション

インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレイション について


代理人 (1件)： 合田 潔 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-112936
公開番号（公開出願番号）：特開平8-051069
出願日： 1995年05月11日
公開日（公表日）： 1996年02月20日
要約：
【要約】【目的】 本発明の目的は、半導体ウェーハを結像するためのマルチステーション・ステップ・アンド・リピート装置(ステッパ)を提供することである。【構成】 本発明によれば、少なくとも2つのステーション106、108を有し、そのうちの少なくとも1つが結像用108である、ステッパが提供される。結像用ステーション以外のステーションは、像フィールド特性測定または像欠陥修正または位相シフト・マスク(PSM)ループ・カッティングに使用することができる。直交する方向に向けられた複数のレーザ・ビーム120〜134が、干渉計による監視を提供して、ステッパ上のウェーハに関してウェーハ位置を追跡する。
請求項（抜粋）：
複数のウェーハ・ステーションを具備し、各前記ウェーハ・ステーションがチャック、オプティックスおよびウェーハ位置監視追跡装置を含むことを特徴とする、ウェーハ上に繰返し像を形成するためのステップ・アンド・リピート装置。
IPC (2件)：
H01L 21/027 ,  G03F 7/20 521
FI (2件)：
H01L 21/30 515 G ,  H01L 21/30 525 L
引用特許：
審査官引用 (9件)
  • 特開平1-117322
  • 特開昭63-261850
  • 精密位置決め装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-310282   出願人：キヤノン株式会社
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