特許
J-GLOBAL ID：200903082903117364

電子ビーム露光方法及びそれを用いたデバイス製造方法

発明者：
村木 真人

村木 真人 について


出願人/特許権者：
キヤノン株式会社

キヤノン株式会社 について


代理人 (1件)： 丸島 儀一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-060855
公開番号（公開出願番号）：特開平10-064812
出願日： 1997年03月14日
公開日（公表日）： 1998年03月06日
要約：
【要約】【課題】 各電子ビームが露光するパターンの繋ぎが確実にできるマルチ電子ビーム型の電子ビーム露光方法を提供できる。【解決手段】 複数の電子ビームを基板上の互いに異なる位置に入射させ、前記複数の電子ビームを偏向する偏向器によって定められる各電子ビームの小露光領域内で、各電子ビームを偏向させるとともに、各電子ビームの照射を個別に制御することによって、前記基坂上の複数の前記小露光領域内にパターンを露光する電子ビーム露光方法において、前記小露光領域同士が隣接する部分では露光領域を重複させるように、前記偏向器によって前記複数の電子ビームを制御する段階を有する。
請求項（抜粋）：
複数の電子ビームを基板上の互いに異なる位置に入射させ、前記複数の電子ビームを偏向する偏向器によって定められる各電子ビームの小露光領域内で、各電子ビームを偏向させるとともに、各電子ビームの照射を個別に制御することによって、前記基坂上の複数の前記小露光領域内にパターンを露光する電子ビーム露光方法において、前記小露光領域同士が隣接する部分では露光領域を重複させるように、前記偏向器によって前記複数の電子ビームを制御する段階を有することを特徴とする電子ビーム露光方法。
IPC (4件)：
H01L 21/027 ,  G03F 7/20 504 ,  G03F 7/20 521 ,  G21K 5/04
FI (5件)：
H01L 21/30 541 W ,  G03F 7/20 504 ,  G03F 7/20 521 ,  G21K 5/04 M ,  H01L 21/30 541 J
引用特許：
審査官引用 (3件)

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