特許
J-GLOBAL ID:200903082978089340

オゾン殺菌脱臭方法ならびに装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (2件): 斎藤 侑 ,  伊藤 文彦
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2002-343356
公開番号(公開出願番号):特開2004-173904
出願日: 2002年11月27日
公開日(公表日): 2004年06月24日
要約:
【課題】二流体ノズルの性能を十分発揮させて、粒径の小さい霧を生成するとともに、粒径の小さい霧と高濃度オゾンガスを接触させて、高濃度オゾン霧を簡便に生成し、生成したオゾン霧を有効に殺菌・脱臭対象物に接触させることで、使用オゾン量ならびに使用水量を大幅に低減すると共に、オゾンの持つ殺菌・脱臭特性を最大限引き出すことである。【解決手段】二流体ノズルで生成した霧に、該二流体ノズルの霧出口にオゾンガスを供給することでオゾンを溶解させたうえで、霧に溶解しない残存オゾンを含む空気で上記霧(オゾン霧)を噴出させて、殺菌・脱臭対象面や空間に噴霧する。【選択図】 図1
請求項(抜粋):
二流体ノズルで生成した霧に、該二流体ノズルの霧出口部にオゾンガスを供給することでオゾンを溶解させたうえで、霧に溶解しない残存オゾンを含む空気で上記霧(オゾン霧)を噴出させて、殺菌・脱臭対象面や空間に噴霧することを特徴とするオゾン殺菌脱臭方法。
IPC (2件):
A61L9/015 ,  A61L9/14
FI (2件):
A61L9/015 ,  A61L9/14
Fターム (13件):
4C080AA07 ,  4C080BB02 ,  4C080BB05 ,  4C080BB06 ,  4C080CC01 ,  4C080HH02 ,  4C080HH03 ,  4C080KK03 ,  4C080KK06 ,  4C080KK08 ,  4C080MM08 ,  4C080NN01 ,  4C080QQ17
引用特許:
審査官引用 (6件)
  • 特公昭63-028622
  • オゾン殺菌システム
    公報種別:公開公報   出願番号:特願2001-057141   出願人:大淀小松株式会社, 川上安一
  • 排気脱臭装置
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平9-112489   出願人:石川島播磨重工業株式会社
全件表示

前のページに戻る