特許

J-GLOBAL ID：200903083038443044

照射野形成装置

発明者： 古川 卓司 ,  野田 耕司
出願人/特許権者： 独立行政法人放射線医学総合研究所
代理人 (2件)： 磯野 道造 ,  多田 悦夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-175604
公開番号（公開出願番号）：特開2006-346120
出願日： 2005年06月15日
公開日（公表日）： 2006年12月28日
要約：

【課題】荷電粒子ビームの照射深度を調整しつつも、一定なビーム径で照射野を形成することができる照射野形成装置を提供する。【解決手段】加速器で生成した荷電粒子ビームを被検体6に照射する際に、照射野を形成する照射野形成装置1であって、荷電粒子ビームのビーム軸Z上に配設され、荷電粒子ビームの照射深度を調整するレンジシフタ11と、レンジシフタ11の下流に配設され、レンジシフタ11により拡大された荷電粒子ビームのビーム径を一定に調整する2つ以上の収束用電磁石12と、を備えたことを特徴とする照射野形成装置1である。【選択図】図2

請求項（抜粋）：

加速器で生成した荷電粒子ビームを被検体に照射する際に、照射野を形成する照射野形成装置であって、 前記荷電粒子ビームのビーム軸上に配設され、前記荷電粒子ビームの照射深度を調整するレンジシフタと、 前記レンジシフタの下流に配設され、前記レンジシフタにより拡大された前記荷電粒子ビームのビーム径を一定に調整する2つ以上の収束用電磁石と、 を備えたことを特徴とする照射野形成装置。

IPC (3件)：

A61N 5/10 ,  G21K 3/00 ,  G21K 1/093

FI (6件)：

A61N5/10 J ,  A61N5/10 H ,  A61N5/10 N ,  G21K3/00 W ,  G21K3/00 Y ,  G21K1/093 F

Fターム (9件)：

4C082AA01 ,  4C082AC05 ,  4C082AE01 ,  4C082AG12 ,  4C082AG21 ,  4C082AG31 ,  4C082AG42 ,  4C082AG60 ,  4C082AN05

引用特許：

出願人引用 (1件)

• 治療装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-180015   出願人：株式会社東芝

審査官引用 (4件)

• ビーム治療装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-038213   出願人：株式会社東芝
• 治療装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-180015   出願人：株式会社東芝
• 特開昭53-008500
  
• 回転ガントリ
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-065505   出願人：株式会社日立製作所