特許

J-GLOBAL ID：200903083152605542

磁気記録媒体及びその製造方法

発明者： 小林 哲
出願人/特許権者： ホーヤ株式会社
代理人 (1件)： 藤村 康夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-094389
公開番号（公開出願番号）：特開2000-285437
出願日： 1999年03月31日
公開日（公表日）： 2000年10月13日
要約：

【要約】【課題】 磁気記録媒体において、より高い硬度の保護層を実現するとともに、保護層を薄くした場合であっても化学的・物理的保護能力が高い保護層を実現する。【解決手段】 磁気記録媒体における保護層を、分子中に炭素と窒素とが単結合によって交互に結合した交番結合構造を有する含窒素飽和有機化合物(1,3,5-トリメチルヘキサヒドロ-1,3,5-トリアジン等、トリメチルアミン)を原料とし、非電子衝突励起機構によって生じるプラズマを用いた、プラズマ化学的気相成長法又はイオンビーム堆積法によって形成する。

請求項（抜粋）：

基板上に少なくとも磁性層と、保護層とを有する磁気記録媒体において、前記保護層は、炭素と窒素とが単結合によって交互に結合した交番結合によって実質的に構成されている非晶質窒化炭素又は非晶質水素化窒化炭素からなることを特徴とする磁気記録媒体。

IPC (2件)：

G11B 5/72 ,  G11B 5/84

FI (2件)：

G11B 5/72 ,  G11B 5/84 B

Fターム (11件)：

5D006AA01 ,  5D006AA05 ,  5D006DA03 ,  5D006EA02 ,  5D006FA00 ,  5D112AA07 ,  5D112AA24 ,  5D112BC05 ,  5D112FA01 ,  5D112FA10 ,  5D112FB09

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 窒化炭素及びその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-090592   出願人：株式会社東京電子冶金研究所
• 磁気記録媒体の製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-191430   出願人：株式会社日立製作所
• 特許第2636734号