特許
J-GLOBAL ID:200903083163638833
分子化合物の製造方法
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
廣田 雅紀
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-375528
公開番号(公開出願番号):特開2002-179597
出願日: 2000年12月11日
公開日(公表日): 2002年06月26日
要約:
【要約】【課題】 固体-固体反応や固体-液体反応による分子化合物、特に安定性に優れた分子化合物の工業的な製造方法を提供すること。【解決手段】 固体ホスト化合物と固体ゲスト化合物、又は固体ホスト化合物と液体ゲスト化合物をニーダ装置を用いて混合・混練し、更に必要に応じて押出し造粒して分子化合物を製造する。また、分子化合物の製造に際して、ホスト化合物とゲスト化合物とを混合・混練した後、50°C以上で且つゲスト化合物の放出温度以下の温度に所定期間保持する工程、ホスト化合物とゲスト化合物とを混合・混練することにより生成した分子化合物を、ゲスト化合物を溶解することができる溶媒で洗浄する工程、固体ホスト化合物をあらかじめ粉砕する工程、水等の固体ホスト化合物、固体ゲスト化合物及び液体ゲスト化合物に対する貧溶媒を添加して混合・混練する工程の1又は2以上の工程を採用する。
請求項(抜粋):
固体ホスト化合物と固体ゲスト化合物、又は固体ホスト化合物と液体ゲスト化合物とを混合及び/又は混練することにより安定性の向上した分子化合物を製造する方法であって、少なくとも以下の(a)〜(d)工程のいずれか一工程を行うことを特徴とする分子化合物の製造方法。(a) ホスト化合物とゲスト化合物とを混合及び/又は混練した後、50°C以上で且つゲスト化合物の放出温度以下の温度に所定期間保持する工程(b) ホスト化合物とゲスト化合物とを混合及び/又は混練することにより生成した分子化合物を、ゲスト化合物を溶解することができる溶媒で洗浄する工程(c) 固体ホスト化合物をあらかじめ粉砕する工程(d) 固体ホスト化合物、固体ゲスト化合物及び液体ゲスト化合物に対する貧溶媒を添加して混合及び/又は混練する工程
IPC (5件):
C07B 61/00
, B01J 2/20
, B02C 19/06
, C07C 39/16
, C07D233/58
FI (5件):
C07B 61/00 B
, B01J 2/20
, B02C 19/06 B
, C07C 39/16
, C07D233/58
Fターム (11件):
4D067CA02
, 4D067GA20
, 4G004LA00
, 4H006AA02
, 4H006AC90
, 4H006AD15
, 4H006BC10
, 4H006BC33
, 4H006BD60
, 4H006FC52
, 4H006FE13
引用特許:
審査官引用 (10件)
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特開昭63-035533
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特開昭61-030551
-
特開昭62-120344
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