特許
J-GLOBAL ID:200903083167739723
物品を洗浄するための方法
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (4件):
浅村 皓
, 浅村 肇
, 安藤 克則
, 小池 誠
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2003-557723
公開番号(公開出願番号):特表2005-515619
出願日: 2003年01月07日
公開日(公表日): 2005年05月26日
要約:
物品を洗浄する方法は、物品を、二酸化炭素を含む溶媒流体に接触させ、それによって、物品上の汚染物質を溶媒流体中に溶解させ、溶媒流体を二酸化炭素以外の置換用流体で置き換えることを含む。一態様では、置換用流体は、置き換えられる溶媒流体中に第2の相が生成するのを防止するのに十分な温度と圧力であり、二酸化炭素の少なくとも一部を物品へ再循環させる。他の態様では、置換用ガスによるその置き換えの前に溶媒流体の圧力を低下させる。
請求項(抜粋):
a)ウェハを、二酸化炭素を含む溶媒流体と接触させ、それによって前記溶媒流体で前記ウェハ上の汚染物質を除去するステップと、
b)前記溶媒流体を、置き換えられる溶媒流体中に第2の相が生成するのを防止するのに十分な温度と圧力の、二酸化炭素以外の置換用流体で置き換え、それによって前記ウェハから前記汚染物質を分離し、前記ウェハを洗浄するステップと
を含むウェハの汚染物質を洗浄する方法。
IPC (3件):
H01L21/304
, B08B7/00
, H01L21/027
FI (3件):
H01L21/304 647Z
, B08B7/00
, H01L21/30 572B
Fターム (11件):
3B116AA03
, 3B116AA46
, 3B116AB01
, 3B116BB02
, 3B116BB90
, 3B116CC03
, 3B116CD22
, 3B116CD31
, 5F046MA02
, 5F046MA05
, 5F046MA06
引用特許:
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