X線投影露光装置及びデバイス製造方法

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (4件)：宮崎昭夫 , 石橋政幸 , 岩田慎一 , 緒方雅昭
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-234194
公開番号（公開出願番号）：特開2006-049919
出願日： 2005年08月12日
公開日（公表日）： 2006年02月16日
要約：

【課題】真空雰囲気中あるいは減圧された軽元素気体中であっても反射マスクを確実に支持固定し、温度によるマスクの歪みを抑制できるX線投影露光装置を提供する。【解決手段】反射型マスク1をX線で照明する照明系と、反射型マスクのパターンの像をウエハに投影する投影光学系と、反射型マスク1を静電気力で保持する保持手段32と、保持手段の温度を調節する温度調節手段41,42とを備え、反射型マスク1は、パターンが表面に形成された多層膜と、多層膜が表面の所定領域に形成された基板とを有し、保持手段32は、基板の前記表面と対向する裏面を保持し、温度調節手段41,42は、保持手段の、基板の表面の所定領域と対向する裏面の領域を保持する部位の温度を調節する。【選択図】図4

請求項（抜粋）：

反射型マスクをX線で照明する照明系と、前記反射型マスクのパターンの像をウエハに投影する投影光学系と、前記反射型マスクを静電気力で保持する保持手段と、前記保持手段の温度を調節する温度調節手段と、を備え、前記反射型マスクは、前記パターンが表面に形成された多層膜と、前記多層膜が表面の所定領域に形成された基板と、を有し、前記保持手段は、前記基板の前記表面と対向する裏面を保持し、前記温度調節手段は、前記保持手段の、前記基板の前記表面の前記所定領域と対向する前記裏面の領域を保持する部位の温度を調節することを特徴とするX線投影露光装置。

IPC (4件)：

H01L 21/027 , G03F 7/20 , H01L 21/683 , H02N 13/00

FI (5件)：

H01L21/30 531A , G03F7/20 521 , H01L21/30 503D , H01L21/68 R , H02N13/00 D

Fターム (28件)：

5F031CA02 , 5F031CA07 , 5F031HA02 , 5F031HA08 , 5F031HA12 , 5F031HA16 , 5F031HA24 , 5F031HA28 , 5F031HA37 , 5F031HA38 , 5F031HA45 , 5F031HA53 , 5F031JA01 , 5F031JA46 , 5F031PA11 , 5F031PA16 , 5F046CC09 , 5F046DA06 , 5F046DA26 , 5F046DB02 , 5F046DB14 , 5F046DC05 , 5F046GA03 , 5F046GA08 , 5F046GA11 , 5F046GA14 , 5F046GB01 , 5F046GD10

引用特許：

審査官引用 (7件)

特開平4-280620
特開昭63-260023
特開昭63-312639

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