特許
J-GLOBAL ID：200903083482775835
位相シフタ自動配置方法及びそれを用いた位相シフタ自動配置装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
小川 勝男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-095771
公開番号（公開出願番号）：特開平6-308714
出願日： 1993年04月22日
公開日（公表日）： 1994年11月04日
要約：
【要約】 (修正有)【構成】 入力されたマスクパターンにおいて、指定された値よりも近接して配置されている2つのパターンの組合せを抽出し、このパターンの組合せのうち他のパターンと隣接している辺長の長いものほど位相シフタ配置の優先順位を高くし、シフタ配置優先順位順に2種類の位相シフタを交互に配置する。位相シフタ配置の矛盾箇所にはマスクパターンの変更案を示す。また、マスクパターンの投影像が所望の分布になるように変更案を収束させる。【効果】 マスクパターンに位相シフタ配置の優先順位を付けて位相シフタを交互に配置することにより、シフタ配置の矛盾箇所がパターン形状の変更し易い領域になる。この領域でのパターン変更案を提示することにより、マスクパターン変更を容易にし、パターン配置を最適化することができる。
請求項（抜粋）：
与えられた光露光用マスクパターンの中から透過光の位相を変える位相シフタを配置すべきパターンを特定する位相シフタ自動配置方法において、パターンレイアウト設計において、マスクパターン形状の入力工程と、互いに近接して配置されている透光パターンの組合せを抽出する近接パターン抽出工程と、該パターンの組合せに対して位相シフタを配置する優先順位を設ける優先順位決定工程と、シフタ配置優先順位の高いパターンの組合せから順に2種類の位相を与えるようにシフタを交互に配置するシフタ配置決定工程と、位相シフタ配置の矛盾個所表示工程を備えたことを特徴とする位相シフタ自動配置方法。
IPC (3件)：
G03F 1/08
, G06F 15/60 370
, H01L 21/027
