特許
J-GLOBAL ID：200903083503993978
スパッタリングターゲット
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
小西 淳美
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-290420
公開番号（公開出願番号）：特開平9-111445
出願日： 1995年10月12日
公開日（公表日）： 1997年04月28日
要約：
【要約】【課題】 マグネトロンスパタリング方式によるターゲットが部分的に消耗し、使用効率の低下を招いていた。【解決手段】 ターゲットのうち、消耗の激しい部位の板厚を厚くする。又は、ターゲットを分割することにより当該消耗の激しい部位の交換を可能とする。
請求項（抜粋）：
マグネトロンスパッタリング用ターゲットにおいて、少なくとも該ターゲットの板厚を部分的に変えたことを特徴とするマグネトロンスパッタリング用ターゲット。
IPC (3件)：
C23C 14/34
, C23C 14/35
, H01L 21/203
C23C 14/34 B
, C23C 14/34 C
, C23C 14/35 Z
, H01L 21/203 S
