特許

J-GLOBAL ID：200903083544078885

ステージ、ホットプレート、加工装置及び電子機器の製造方法

発明者： 大崎 裕司
出願人/特許権者： 株式会社アドバンスト・ディスプレイ
代理人 (1件)： 家入 健
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-319275
公開番号（公開出願番号）：特開2005-086126
出願日： 2003年09月11日
公開日（公表日）： 2005年03月31日
要約：

【課題】 ステージへの基板の吸着による製造不良を防ぐことができるステージ、ホットプレート、加工装置及び電子機器の製造方法を提供すること。【解決手段】 本発明にかかるステージは、基板を吸着するステージであって、基板を吸着する吸着面に吸着孔21を形成された本体部23と、吸着孔21に埋め込まれた多孔質セラミック部材22と、を備え、多孔質セラミック部材22が吸着面と共に基板を支持するように、吸着孔21に埋め込まれた多孔質セラミック部材22を介して基板を吸着するものである。【選択図】 図2

請求項（抜粋）：

基板を吸着するステージであって、 前記基板を吸着する吸着面に凹部を形成された本体部と、 前記凹部に埋め込まれた多孔質部材と、を備え、 前記多孔質部材が前記吸着面と共に前記基板を支持するように、前記凹部に埋め込まれた多孔質部材を介して前記基板を吸着する、ステージ。

IPC (4件)：

H01L21/68 ,  G02F1/13 ,  G02F1/1333 ,  H05B3/74

FI (4件)：

H01L21/68 P ,  G02F1/13 101 ,  G02F1/1333 500 ,  H05B3/74

Fターム (31件)：

2H088FA17 ,  2H088FA21 ,  2H088FA30 ,  2H088HA01 ,  2H088HA02 ,  2H088HA03 ,  2H088HA12 ,  2H088HA18 ,  2H088HA28 ,  2H088JA05 ,  2H088JA13 ,  2H088JA17 ,  2H088MA20 ,  2H090JB02 ,  2H090LA01 ,  2H090LA02 ,  2H090LA03 ,  2H090LA09 ,  2H090LA16 ,  3K092PP20 ,  3K092RF11 ,  3K092RF17 ,  3K092VV22 ,  3K092VV40 ,  5F031CA05 ,  5F031HA02 ,  5F031HA03 ,  5F031HA14 ,  5F031HA37 ,  5F031PA14 ,  5F031PA23

引用特許：

出願人引用 (1件)

• 液晶パネルの製造方法および製造装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-048996   出願人：松下電器産業株式会社

審査官引用 (3件)

• ホットプレート
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-269352   出願人：株式会社リコー
• 特開平1-216550
  
• 基板吸着装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-144170   出願人：ソニー株式会社