基板処理装置

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (3件)：東田潔 , 山下雅昭 , 打揚洋次
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-380145
公開番号（公開出願番号）：特開2004-214312
出願日： 2002年12月27日
公開日（公表日）： 2004年07月29日
要約：

【課題】基板処理装置において、基板ステージ上で基板をロード、アンロードするには基板を所定の高さで担持できるのがよいが、駆動手段を備えたリフト手段を設けたのではコスト高を招くと共に、構造が複雑になる。【解決手段】基板ステージ3に少なくとも1個の基板リフト手段4を設ける。、基板リフト手段4は、基板搬送位置で基板ステージの下降方向に設けたストッパ14と接触して基板ステージから上方に突出して所定の高さで基板を担持すると共に、基板ステージのプロセス位置への移動に伴ってストッパとの接触が解除されて基板ステージ上で所定の高さ位置まで基板を下降させる。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

チャンバを有し、該チャンバ内に基板が載置される基板ステージを設け、該基板ステージは、所定の基板処理を行うプロセス位置と基板のロード、アンロードを行い得る基板搬送位置との間で昇降自在である基板処理装置において、前記基板ステージに少なくとも1個の基板リフト手段を設け、該基板リフト手段は、基板搬送位置で基板ステージの下降方向に設けたストッパと係合して基板ステージから上方に突出して所定の高さで基板を担持すると共に、基板ステージのプロセス位置への移動に伴ってストッパとの係合が解除されて基板ステージ上で所定の高さ位置まで基板を下降させることを特徴とする基板処理装置。

IPC (1件)：

H01L21/68

FI (1件)：

H01L21/68 N

Fターム (9件)：

5F031CA02 , 5F031CA05 , 5F031HA02 , 5F031HA12 , 5F031HA33 , 5F031HA37 , 5F031HA50 , 5F031HA58 , 5F031MA28

引用特許：

審査官引用 (4件)

半導体処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平11-103137 出願人：日本エー・エス・エム株式会社
特開昭63-244643
エピタキシャルウェーハ製造装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平11-132480 出願人：コマツ電子金属株式会社

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