特許
J-GLOBAL ID:200903083626627364
研磨液及びこの研磨液を用いた研磨方法
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (6件):
三好 秀和
, 岩▲崎▼ 幸邦
, 川又 澄雄
, 伊藤 正和
, 高橋 俊一
, 高松 俊雄
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2007-210146
公開番号(公開出願番号):特開2008-112969
出願日: 2007年08月10日
公開日(公表日): 2008年05月15日
要約:
【課題】 研磨液の誘電率に着目することで研磨摩擦力を低下させ、研磨荷重及び研磨速度を低下させることなく研磨を可能とする金属用研磨液及びこれを用いた研磨方法を提供する。【解決手段】 水、酸化剤、酸化金属溶解剤、保護膜形成剤及び水より誘電率が低い溶媒を含む金属用研磨液であって、前記水より誘電率が低い溶媒が金属用研磨液中に3〜30質量%含有される金属用研磨液、この金属用研磨液に、さらに研磨粒子を含む金属用研磨液及び前記の金属用研磨液を供給しながら研磨布と基板とを相対的に動かして被研磨面を研磨する研磨方法。【選択図】 なし
請求項(抜粋):
水、酸化剤、酸化金属溶解剤、保護膜形成剤及び水より誘電率が低い溶媒を含む金属用研磨液であって、前記水より誘電率が低い溶媒が金属用研磨液中に3〜30質量%含有される金属用研磨液。
IPC (3件):
H01L 21/304
, B24B 37/00
, C09K 3/14
FI (6件):
H01L21/304 622C
, H01L21/304 622D
, H01L21/304 622X
, B24B37/00 H
, C09K3/14 550Z
, C09K3/14 550D
Fターム (5件):
3C058AA07
, 3C058AA09
, 3C058CB03
, 3C058DA12
, 3C058DA17
引用特許:
出願人引用 (4件)
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米国特許第4944836号明細書
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特開平02-278822号公報
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研磨剤および研磨方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平7-055290
出願人:株式会社東芝
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