特許

J-GLOBAL ID：200903083712117603

洗浄方法及び洗浄装置

発明者： 大見 忠弘 ,  小島 泉里 ,  新田 雄久
出願人/特許権者： 大見 忠弘
代理人 (1件)： 福森 久夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-195688
公開番号（公開出願番号）：特開平10-027771
出願日： 1996年07月05日
公開日（公表日）： 1998年01月27日
要約：

【要約】【課題】 本発明は従来の洗浄方法及び洗浄装置の問題を解決し、フォトレジスト等の有機被膜を室温で溶解ではなく剥離除去するため洗浄処理が極めて短時間で済み、洗浄液が長時間にわたって劣化せず、しかも洗浄効果が高く、薬品蒸気や水蒸気が殆ど発生しないため装置が小型簡素化されるなど極めて優れた特徴を有する洗浄方法及び洗浄装置を提供することを目的とする。【解決手段】 本発明は、純水で希釈された有機溶剤に、ハロゲン化アルカリ金属塩若しくはフッ化水素酸若しくはフッ化アンモニウムを混合した洗浄溶液中で、該洗浄溶液に超音波を照射することにより基体に付着するレジストなどの有機被膜を除去することを特徴とする。

請求項（抜粋）：

純水で希釈された有機溶剤にハロゲン化アルカリ金属塩を混合した洗浄溶液中で、該混合溶液に超音波を照射することにより基体に付着する有機被膜を除去することを特徴とする洗浄方法。

IPC (5件)：

H01L 21/304 341 ,  H01L 21/304 ,  B08B 3/12 ,  H01L 21/306 ,  H01L 21/308

FI (5件)：

H01L 21/304 341 L ,  H01L 21/304 341 M ,  B08B 3/12 A ,  H01L 21/308 E ,  H01L 21/306 D

引用特許：

審査官引用 (5件)

• ウエット処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-056110   出願人：日本電気株式会社
• 洗浄材
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-205847   出願人：日本化成株式会社
• 半導体装置洗浄剤および半導体装置の製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-000520   出願人：三菱瓦斯化学株式会社, 日本テキサス・インスツルメンツ株式会社
• 特開平3-116832
  
• 基板処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-033627   出願人：大日本スクリーン製造株式会社