特許
J-GLOBAL ID：200903083756714773
半水石膏の製造装置及び半水石膏の連続的製造方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
西脇 民雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-143700
公開番号（公開出願番号）：特開2006-321663
出願日： 2005年05月17日
公開日（公表日）： 2006年11月30日
要約：
【課題】熱効率が向上された半水石膏の製造装置及び連続的製造方法を提供すること。【解決手段】一端1aに原料を供給する供給部2、他端1bに生成物を排出する排出部3を備えた横型筒状体1の内部を主反応装置とし、横型筒状体1を回転させながら供給された二水石膏を主体とする粉体Pを排出部3に向けて移送しつつ外部から導入された加熱ガスHGにより加熱処理して半水石膏を主体とする粉体Pへ変換させる半水石膏の製造装置である。横型筒状体1の供給部2側の内部に向けて熱源としての加熱ガスHGを放出する加熱ガス供給部4と、横型筒状体1の排出部3側から排ガスWGを排出するガス排出部8と、ガス排出部8により排出された排出ガスWGの一部を循環ガスRGとして加熱ガスHGと混合して循環するガス循環手段9とを備える。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
一端に原料を供給する供給部、他端に生成物を排出する排出部を備えた横型筒状体の内部を主反応装置とし、該横型筒状体を回転させながら供給された二水石膏を主体とする粉体を排出部に向けて移送しつつ外部から導入された加熱ガスにより加熱処理して半水石膏を主体とする粉体へ変換させる半水石膏の製造装置であって、
前記横型筒状体の供給部側の内部に向けて熱源としての加熱ガスを放出する加熱ガス供給部と、前記横型筒状体の排出部側から排ガスを排出するガス排出部と、該ガス排出部により排出された排ガスの一部を循環ガスとして前記加熱ガスと混合して循環するガス循環手段とを備えることを特徴とする半水石膏の製造装置。
IPC (1件)：
FI (1件)：
引用特許：
出願人引用 (3件)
審査官引用 (6件)
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特開昭58-115048
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廃石膏ボードの処理方法
公報種別：公開公報
出願番号：特願2003-338654
出願人：西重良一
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特開昭62-216632
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