粒子位置制御システム、及び、粒子位置制御方法

発明者：
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-073132
公開番号（公開出願番号）：特開2005-260169
出願日： 2004年03月15日
公開日（公表日）： 2005年09月22日
要約：

【課題】 1本の光線を用いて、複数の粒子を独立に位置制御するための粒子位置制御システム、及び、粒子位置制御方法を提供する。【解決手段】レーザ発光器10は、試料60に対して照射される1本のレーザビームを出力する。粒子位置制御部12は、トラップ照射位置に対して、粒子を捕捉するために必要な光量により、1本の光線を照射し、かつ、トラップ位置で捕捉された粒子が、1本の光線の照射位置の移動に追随して移動しないように、トラップ照射位置以外では1本の光線の照射位置を高速に移動させる。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

粒子が散在する空間への光線の照射位置を制御することにより、粒子を捕捉すべきトラップ位置での粒子の捕捉を制御する粒子位置制御システムにおいて、前記空間に対して照射される1本の光線を出力する光線発生手段と、前記トラップ位置で粒子を捕捉するためのトラップ照射位置に対して、粒子を捕捉するために必要な光量により、前記1本の光線を照射し、かつ、前記トラップ位置で捕捉された粒子が前記1本の光線の照射位置の移動に追随して移動しないように、前記トラップ照射位置以外での前記1本の光線を制御する粒子位置制御手段とを備えることを特徴とする粒子位置制御システム。

IPC (3件)：

H01S3/00 , B82B3/00 , G02B21/32

FI (3件)：

H01S3/00 A , B82B3/00 , G02B21/32

Fターム (2件)：

2H052AF19 , 5F172ZZ20

引用特許：

出願人引用 (1件)

立体構造物用色素の定着方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2000-284779 出願人：独立行政法人産業技術総合研究所

審査官引用 (5件)

微細物体の操作方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平11-367190 出願人：松下電器産業株式会社
微粒子の計測及び操作方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平3-168244 出願人：水野彰, 株式会社朝日工業社
微小物体移動装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-183629 出願人：株式会社トキメック

全件表示

前のページに戻る