放電プラズマ処理装置

発明者： , ,
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-298025
公開番号（公開出願番号）：特開2003-100733
出願日： 2001年09月27日
公開日（公表日）： 2003年04月04日
要約：

【要約】【課題】高速処理及び大面積処理に対応可能でかつ、基材にダメージを与えず、異常放電の無い放電プラズマ処理装置の提供。【解決手段】電圧印加電極と接地電極からなる対向電極を有し、前記対向電極の少なくとも一方の電極対向面が固体誘電体で被覆され、前記対向電極間に電界を印加することにより前記対向電極間に発生するグロー放電プラズマを、プラズマ発生空間外に配置された基材に導いて処理を行う処理装置であって、前記電圧印加電極と基材との間隔が、接地電極と基材との間隔よりも大きくなるように配置されることを特徴とする放電プラズマ処理装置。

請求項（抜粋）：

電圧印加電極と接地電極からなる対向電極を有し、前記対向電極の少なくとも一方の電極対向面が固体誘電体で被覆され、前記対向電極間に電界を印加することにより前記対向電極間に発生するグロー放電プラズマを、プラズマ発生空間外に配置された基材に導いて処理を行う処理装置であって、前記電圧印加電極と基材との間隔が、接地電極と基材との間隔よりも大きくなるように配置されることを特徴とする放電プラズマ処理装置。

IPC (6件)：

H01L 21/31 , B01J 19/08 , C23C 16/505 , C23C 16/515 , C23C 16/517 , H05H 1/24

FI (6件)：

H01L 21/31 C , B01J 19/08 H , C23C 16/505 , C23C 16/515 , C23C 16/517 , H05H 1/24

Fターム (49件)：

4G075AA24 , 4G075AA30 , 4G075AA61 , 4G075AA70 , 4G075BC04 , 4G075BC06 , 4G075CA14 , 4G075CA47 , 4G075DA01 , 4G075EC21 , 4G075FB02 , 4G075FC15 , 4K030AA02 , 4K030AA05 , 4K030AA11 , 4K030BA42 , 4K030BA44 , 4K030BA45 , 4K030BA46 , 4K030CA02 , 4K030CA05 , 4K030CA07 , 4K030DA02 , 4K030DA03 , 4K030FA01 , 4K030FA03 , 4K030GA12 , 4K030JA03 , 4K030JA09 , 4K030KA17 , 4K030KA30 , 4K030KA46 , 5F045AA08 , 5F045AB32 , 5F045AC07 , 5F045AC11 , 5F045AC12 , 5F045AC15 , 5F045AC16 , 5F045AC17 , 5F045AE25 , 5F045AF03 , 5F045BB16 , 5F045EH04 , 5F045EH08 , 5F045EH13 , 5F045EH18 , 5F045EH19 , 5F045EN04

引用特許：

審査官引用 (3件)

特開平4-358076
表面処理方法及び装置、カラーフィルタ及びその製造方法、並びに液晶パネル及びその製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-040287 出願人：セイコーエプソン株式会社
プラズマ処理装置及びプラズマ処理方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平11-303116 出願人：松下電工株式会社

前のページに戻る