特許
J-GLOBAL ID:200903016248115890

プラズマ処理装置及びプラズマ処理方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 西川 惠清 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-303116
公開番号(公開出願番号):特開2001-006897
出願日: 1999年10月25日
公開日(公表日): 2001年01月12日
要約:
【要約】【課題】 電極の寿命を長くすることができ、しかも、長期間の使用によっても被処理物の汚染が発生せず、さらに、放射高周波ノイズを低減することができるプラズマ処理装置を提供する。【解決手段】 片側が吹き出し口1として開放された筒状の反応管2と一対の電極3、4とを具備して構成される。該反応管2にプラズマ生成用ガスを導入する。一対の電極3、4の間に交流電界を印加することにより、大気圧下で反応管2内にグロー状の放電を発生させる。反応管2の吹き出し口1からジェット状のプラズマ5を吹き出して、流出するプラズマ5にて被処理物6をプラズマ処理するプラズマ処理装置に関する。反応管2の外側に一対の電極3、4を互いに対向させて設ける。電極3、4の両方がプラズマ5に直接曝されることが無くなる。
請求項(抜粋):
片側が吹き出し口として開放された筒状の反応管と一対の電極とを具備して構成され、該反応管にプラズマ生成用ガスを導入し、電極の間に交流電界を印加することにより、大気圧下で反応管内にグロー状の放電を発生させ、反応管の吹き出し口からジェット状のプラズマを吹き出して、流出するプラズマにて被処理物をプラズマ処理するプラズマ処理装置において、反応管の外側に一対の電極を互いに対向させて設けて成ることを特徴とするプラズマ処理装置。
IPC (3件):
H05H 1/30 ,  B23K 10/00 504 ,  H01L 21/3065
FI (3件):
H05H 1/30 ,  B23K 10/00 504 ,  H01L 21/302 B
Fターム (12件):
4E001LH09 ,  4E001LH10 ,  4E001ME05 ,  4E001ME06 ,  5F004AA14 ,  5F004AA15 ,  5F004AA16 ,  5F004BA06 ,  5F004BA20 ,  5F004BB11 ,  5F004BB13 ,  5F004BC08
引用特許:
出願人引用 (8件)
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審査官引用 (9件)
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