表面処理方法及び装置、カラーフィルタ及びその製造方法、並びに液晶パネル及びその製造方法

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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：梅田明彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-040287
公開番号（公開出願番号）：特開平9-213497
出願日： 1996年02月05日
公開日（公表日）： 1997年08月15日
要約：

【要約】【解決手段】電極3と被処理材11との間にマスク10を、被処理材表面の処理したい領域11Aが電極側に他の領域から仕切られるように配設する。マスクは、被処理材表面に接触させ、または該表面との間に僅かなギャップを画定するように配置する。大気圧及びその近傍の圧力下でにおいて電極と被処理材との間に所定のガスを供給しつつ気体放電を発生させ、この気体放電中に作られるプラズマにより該ガスの励起活性種を生成し、マスクで仕切られた処理領域だけを励起活性種に曝露して表面処理する。【効果】大気圧近傍の圧力下では励起活性種の移動がマスク手段により容易に制限され、被処理材表面の所望の領域だけを選択的にかつ高精度に処理できる。

請求項（抜粋）：

大気圧及びその近傍の圧力下において電極と被処理材との間で気体放電を発生させ、前記気体放電により所定のガスの励起活性種を生成し、前記励起活性種に前記被処理材の表面を曝露する工程からなる表面処理方法であって、前記被処理材表面上にマスク手段を配設して、その処理領域を制限する工程を含むことを特徴とする表面処理方法。

IPC (4件)：

H05H 1/46 , G02B 1/10 , G02B 5/20 101 , G02F 1/1335 505

FI (4件)：

H05H 1/46 A , G02B 5/20 101 , G02F 1/1335 505 , G02B 1/10 Z

引用特許：

審査官引用 (17件)

基板の表面処理方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-311876 出願人：積水化学工業株式会社
表面処理方法及びその装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-097072 出願人：株式会社ブリヂストン, 岡崎幸子, 小駒益弘
高周波プラズマ処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平3-226043 出願人：富士通株式会社, 神港精機株式会社

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