特許
J-GLOBAL ID:200903083921121618

固体レーザ装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 中尾 俊輔 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平8-016543
公開番号(公開出願番号):特開平8-321651
出願日: 1996年02月01日
公開日(公表日): 1996年12月03日
要約:
【要約】【課題】 細かい、すなわち高速なパルス制御を実現することにより、より高精度かつバラエティーに富んだ波形制御を行なって最適な加工条件で被加工物に対する加工を行なうことができる固体レーザ装置を提供する。【解決手段】 励起光源8からの光を固体レーザ活性媒質6に照射することにより当該固体レーザ活性媒質6内の原子を励起してレーザ光を発生させる固体レーザ装置において、前記励起光源8を複数の半導体レーザ20により形成するとともに、各半導体レーザ20の出力を制御する出力制御部を設けたことを特徴とす。
請求項(抜粋):
励起光源からの光を固体レーザ活性媒質に照射することにより当該固体レーザ活性媒質内の原子を励起してレーザ光を発生させる固体レーザ装置において、前記励起光源を複数の半導体レーザにより形成するとともに、各半導体レーザの出力を制御する出力制御部を設けたことを特徴とする固体レーザ装置。
IPC (3件):
H01S 3/094 ,  H01S 3/00 ,  H01S 3/10
FI (3件):
H01S 3/094 S ,  H01S 3/00 B ,  H01S 3/10 Z
引用特許:
審査官引用 (6件)
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