特許

J-GLOBAL ID：200903083996534063

位置検出装置及び方法、並びに露光装置

発明者： 中村 綾子 ,  水谷 英夫
出願人/特許権者： 株式会社ニコン
代理人 (1件)： 井上 義雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-027701
公開番号（公開出願番号）：特開2000-228345
出願日： 1999年02月04日
公開日（公表日）： 2000年08月15日
要約：

【要約】【課題】 低段差の位置検出用マークであっても高精度で位置検出する。【解決手段】 マーク像のエッジ傾きEがある程度以上大きくなるようなデフォーカス位置Z2でマーク像を検出しているので、マーク像のエッジを明瞭にすることができ、エッジ位置を決定する際の精度が向上する。つまり、低段差のウェハマークWMであっても高精度の位置検出が可能になる。特に、ウェハマークWMに非対称性があると、そのテレセントリシティに起因する大きな位置騙されが生じやすいが、マーク像のエッジ傾きEがある程度以上大きいという条件の下では、このような位置騙されが生じにくい。

請求項（抜粋）：

試料上に設けた位置検出用マークのマーク像を結像光学系を介して検出する像検出手段と、前記像検出手段からの検出出力に基づいて前記位置検出用マークの位置を検出する位置検出手段と、前記像検出手段で検出される前記マーク像を所定範囲内でデフォーカスさせることができるデフォーカス手段と、前記マーク像をデフォーカスさせた場合の当該マーク像のエッジの傾きに基づいて、前記マーク像をデフォーカスさせて位置検出を行う際のデフォーカス量を決定する決定手段とを備えることを特徴とする位置検出装置。

IPC (3件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20 521 ,  G03F 9/00

FI (4件)：

H01L 21/30 525 E ,  G03F 7/20 521 ,  G03F 9/00 H ,  H01L 21/30 525 W

Fターム (4件)：

5F046DA14 ,  5F046DB05 ,  5F046EA11 ,  5F046FC04

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 位置検出装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-323514   出願人：株式会社ニコン
• レーザ加工装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-270796   出願人：株式会社ニコン
• 特開平4-040319
  
• 基板位置検出方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-314368   出願人：株式会社ニコン