特許
J-GLOBAL ID：200903084027992840
パルス電源装置及びパルス荷電ガス処理装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
北村 修一郎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-162603
公開番号（公開出願番号）：特開平11-009943
出願日： 1997年06月19日
公開日（公表日）： 1999年01月19日
要約：
【要約】【課題】 被処理ガス中の有害ガス成分の濃度変動によらず安定したガス処理能力を維持でき、しかも、省エネルギ化を図れるパルス電源装置を提供する。【解決手段】 高電圧パルス荷電によりプラズマを発生させてガス中のダスト、有害ガス等の除去を行うガス処理部1に高電圧パルスを印加するパルス電源部5と、被処理ガスの特定のガス成分濃度を入力信号I0 として受信して高電圧パルスの単位ガス容量当たりの必要注入エネルギを算出する注入エネルギ演算部6と、パルス電源部5の出力電力とパルス周波数を制御する高電圧パルス制御部7とを備えてなり、高電圧パルス制御部7が、注入エネルギ演算部6が算出した単位ガス容量当たりの必要注入エネルギとガス処理部1内の被処理ガス流量Qを入力信号として受信して、出力電力とパルス周波数を制御する。
請求項（抜粋）：
高電圧パルス荷電によりプラズマを発生させてガス中のダスト、有害ガス等の除去を行うガス処理部に高電圧パルスを印加するパルス電源部と、被処理ガスの特定のガス成分濃度を入力信号として受信して前記高電圧パルスの単位ガス容量当たりの必要注入エネルギを算出する注入エネルギ演算部と、前記パルス電源部の出力電力とパルス周波数を制御する高電圧パルス制御部とを備えてなり、前記高電圧パルス制御部が、前記注入エネルギ演算部が算出した単位ガス容量当たりの必要注入エネルギと前記ガス処理部内の被処理ガス流量を入力信号として受信して、前記出力電力と前記パルス周波数を制御することを特徴とするパルス電源装置。
IPC (2件)：
FI (2件)：
引用特許：
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